二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CVD Producer #9013333 待售
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ID: 9013333
APPLIED MATERIALS CVD Producer Split tool with (2) twin BPSG chambers, 8"
Wafer size & type : 200mm, jmf ( no smif interface )
Chamber position : ch#a & ch#b
Manometer : 20/1000torr
Rps : mks
Electrical information : 208v, 240a, 60hz
Monitor : stand alone & through the wall
Mainframe information:
Mainframe type : shrinkage
Robot : vhp dual robot
Loadlock cassette : manual 2 cassette
Ozone generator : ax8403
Loadlock pump : ipx100
Gas delivery:
Mfc : unit 8161
Valve : fujikin 5 ra max
Filter : millipore
Transducer : mks w/o display
Regulator : veriflo
Single line drop : yes
Gas line feed : bottom feed
System cabinet exhaust : bottom
Gas pallet ( ch#a & ch#b ):
O2 20slm ufc8161
Nf3 3 slm ufc8161
Ar 5 slm ufc8161
He 20slm ufc8161
N2 20slm ufc8161
Teos 4000 lf-410a-evd
Teb 500 lf-310a-evd
Tepo 250 lf-310a-evd
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CVD Producer是一种化学气相沉积（CVD）反应器，用于在多种底物上沉积薄膜。作为高通量沉积设备,AMAT CVD Producer提供卓越的一致性、高速沉积和精确的配方控制,以及较低的拥有成本。APPLIED MATERIALS CVD Producer是由真空室、气体输送单元和热源组成的多室系统。真空室设计为密封环境，允许薄膜沉积而不会受到干扰或污染。气体输送机包括质量流量控制器和阀门，以提供对过程气体成分的精确控制。热源由一组高压电极和石墨敏感器组成，用于在基板上产生均匀的温度。沉积过程从疏散反应堆室开始。一旦压力达到所需的水平，就引入并加热工艺气体。这导致发生反应，导致沉积到底物上。反应的均匀性和速度可以通过调整过程的流量来控制。气体和感受器的运动。此外,CVD Producer还具有精确的配方控制,以实现过程优化。AMAT/APPLIED MATERIALS CVD生产商被用于多个行业，包括学术研究、生物技术、半导体和光伏制造以及显示器生产。适用于先进包装工艺中用于钝化层的氧化硅和氮化硅等多种材料，以及消费电子设备中常用的"黑金石"硝基抗反射涂料。此外，其他应用还包括电介质的沉积，如二氧化硅、氮化硅和金属，例如铜和钨等。AMAT CVD Producer是传统系统的经济高效替代品,因为它具有快速的沉积速率、精确的控制和高通量的能力。此外,它的模块化设计允许简单的设置和操作,而且其低拥有成本使其成为预算紧张的用户的一个有吸引力的选择。最后，它与多种材料的兼容性使得它成为生产高质量薄膜层的宝贵工具。
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