二手 AMAT / APPLIED MATERIALS DPS G5 Mesa #9270845 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS G5 Mesa是一种多晶硅化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于研发（R&D）应用。CVD反应器能够在大面积基板上沉积高质量的薄膜硅，具有优异的均匀性和可重复性。G5 Mesa利用高压直喷（DPI）输送技术，在基板表面上创建反应物气体的单层均匀分布，用于高质量和高产工艺。反应堆还包括一个低压微波等离子体源，通过在大型基板上提供出色的硅质量和均匀性来提高工艺的均匀性、吞吐量和生产率。反应堆由带有工艺模块的腔室、输送控制设备、真空泵、部分/总压力控制系统、动力单元、压力控制机、温度控制工具、气体输送资产、过程控制模型等组成。腔室装有底物载体，基座包括反应物气体的直接注入源和微波等离子体源。G5 Mesa具有固态内存存储设备、可编程逻辑控制器（PLC）和图形用户界面（GUI），允许用户设置进程参数、监视状态和接收报告。PLC实时提供对所有参数的精确控制。它还配备了先进的数据采集设备，能够实时记录和监测系统压力、气流、温度和微波发生器性能。G5 Mesa设计在300-1000 °C的温度范围内运行。它还配备了多个工艺窗口，让工艺开发者能够在不同的温度和压力水平下控制薄膜性能。此外，G5 Mesa提供了高压流量输送控制装置、低压微波等离子体源以及防止样品和大气污染的自动关闭机器。AMAT DPS G5 Mesa化学气相沉积反应器的设计是为了在大面积基板上提供硅均质单层的高效可靠沉积。G5 Mesa凭借其人性化的图形用户界面、精密的工艺控制和数据采集系统，以及先进的DPI和低压微波等离子体源，使优质薄膜硅的沉积具有卓越的均匀性和可重复性。