二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Enabler #293600548 待售
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ID: 293600548
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
Etcher, 12"
Factory interface: FI 5.3
Centura AP Mainframe
RF Rack, 12"
Bias 2 RF generator rack
TOYOTA T100L LL/MF Dry pump
SHIMADZU TMP-3403LMC Turbo pump
DAIHEN RMN-50N6 matcher
Shower head assy, TKI SIC SGD, With Alum Plug, E5
12" Facilities interface box: wFIB, eFIB
Inner/Outer independent temperature control
Independent Gas injection: 2 gases for each step
Closer cooling and heating showerhead design
Power supply:
High bias RF power capacity: 7.5 kW (max combined power)
RF Frequency: 162 MHz Source, 13.56/2 MHz Bias
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler是一种高性能气相反应器，用于生产半导体工业中使用的元件。AMAT Enabler有一个独特的设计，它使用了一种基于气流的专利工艺，为薄膜的沉积提供了一种高效可靠的方法。应用材料启用器的腔室被封闭在大气中，并充满一种硅基气体，通常由硅烷或二硅烷组成，被转移到基质腔室。启用器随后能够使用内置的热管理设备来控制基板的导热系数和蚀刻温度。该系统允许精确控制用于创建所需薄膜厚度和蚀刻特性的热能量。AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler利用注入加热等离子体放电区的欧姆电流来实现所需的过程。这种二合一的方法有助于提高沉积速度并最大限度地减少膜污染。此外，AMAT Enabler还配备了一个快速填充装置，允许在加工气体之间进行高效切换。此功能有助于通过减少薄膜的不均匀性、提高均匀性和产生更好的工艺性能来优化工艺。APPLIED MATERIALS Enabler还配备了闭环控制机，以保持设备性能、温度均匀性和长期的胶片质量。这个最先进的工具监视每个过程阶段，包括等离子体生成、离子撞击和溅射。这一资产还有助于确保整个加工室的准确温度控制，这对于生产高质量的部件至关重要。综上所述，Enabler是一种高性能气相等离子体反应堆，设计用于生产速度和效率更高的半导体元件。AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler具有独特的工艺,它将欧姆电流注入与热管理相结合,以提高工艺性能并减少污染。此外,它还利用先进的控制模型帮助在生产过程中保持整个加工室的温度均匀性。AMAT Enabler通过其先进的功能和可靠的性能,提供了一种高效可靠的方法来生产当今生产的一些最先进的半导体元件。
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