二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Enabler #293600549 待售
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ID: 293600549
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
Etcher, 12"
Factory interface: FI 5.3
Centura AP Mainframe
RF Rack, 12"
Bias 2 RF generator rack
TOYOTA T100L LL/MF Dry pump
SHIMADZU TMP-3403LMC Turbo pump
DAIHEN RMN-50N6 matcher
Shower head assy, TKI SIC SGD, With Alum Plug, E5
12" Facilities interface box: wFIB, eFIB
Inner/Outer independent temperature control
Independent Gas injection: 2 gases for each step
Closer cooling and heating showerhead design
Power supply:
High bias RF power capacity: 7.5 kW (max combined power)
RF Frequency: 162 MHz Source, 13.56/2 MHz Bias
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler Reactor是一种先进的化学气相沉积（CVD）设备，设计用于生产半导体材料。这种单晶片反应器使用超低压CVD腔室和获得专利的Homura冷却系统，提供坚固、可靠和可重复的工艺性能。AMAT Enabler反应器在高达850°C的温度下提供优质薄膜沉积，非常适合生产二氧化硅（SiO2）、氮化硅（SiNx）和碳化硅（SiCX）等化合物。应用材料启用器反应器的独特和专利的Homura冷却装置大大缩短了工艺周期时间，利用一种创新的气体脉冲安排从晶片中提取热量。这使得薄膜沉积比传统的非Homura冷却反应堆更薄，增长速度更快。启用程序还具有用户友好的设计、直观的控制机器和图形用户界面。AMAT/APPLIED MATERIALS Enabler Reactor利用CVD工艺精密沉积特定半导体材料的薄膜，使半导体材料性能（如压缩应力或拉伸应力、孔隙度、晶粒尺寸、成分均匀性）得以高精度优化。该工具还确保了不同尺寸、不同水平的晶片的薄膜沉积均匀性，以及具有快速冷却和优异均匀性的多重沉积操作。均质气流、预定义的工艺参数和先进的护套加热方法提供了可靠、可重复的工艺结果和优异的均匀性。此外,AMAT Enabler反应堆具有先进的热管理资产（TMS）,具有可变的冷却速率和低温区域,以防止材料损坏或过饱和。这可能是由于反应堆的TMS的功率，它提供了对冷却速率的精确控制。APPLICED MATERIALS Enabler Reactor是生产半导体材料的坚固、可靠和可重复的工具，因其卓越的性能和可重复性而在业界备受推崇。这种先进的反应堆为用户提供了很大的灵活性，用户可以根据自己的需要定制和剖析沉积。对沉积过程获得精确控制并获得总均匀性的能力是Enabler反应堆的最大优势之一，使反应堆适合各种半导体应用。
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