二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827408 待售
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ID: 293827408
优质的: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2是一种高度先进的冷壁、单晶片、生产级反应堆，为制造商提供了对半导体材料可靠和经济高效的加工能力。反应堆的温度控制高达1120 ˚C，压力和温度控制高达7托。这使其能够执行单晶片沉积、原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）和等离子体增强的CVD（PECVD）等过程。反应堆的设计可容纳多达30英寸的晶片，并包括一系列功能，使用户能够根据所需的加工要求定制反应堆。例如，AMAT Endura 2采用了一种创新的自清洁淋浴头，有助于最大限度地减少工艺室的污染，并确保工艺内部的均匀性。它还包括一个热控制设备和多个阀门，使用户能够调节系统的气流和温度。此外，APPLIED MATERIALS Endura 2还包括一个惰性双环排气单元，帮助从反应堆抽取工艺种类进行疏散，以及一个冷却机器，在操作过程中帮助保护工艺室。在过程控制方面，反应堆附有独特的智能测试仪，有助于测量样品温度、压力、气流和波形等参数。这有助于确保可靠的流程优化和一致性。Endura 2还具有直观、用户友好的图形用户界面（GUI）,它简化了工具的设置和控制。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS Endura 2包括一个高效的清洁资产，可确保在每个工艺周期之间彻底清洁模型。反应堆还为考试功能提供了一系列选项，如热墙，以及高级应用特定功能，如Peressurization，这有助于最大限度地提高工艺效率。AMAT Endura 2是一个非常先进和可靠的半导体加工反应堆，为制造商提供了巨大的性能和成本效益。它具有可靠的温度、压力和气流控制、直观的GUI接口以及高效的清洁设备,所有这些都有助于确保半导体材料的高效、均匀处理。
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