二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827409 待售
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ID: 293827409
优质的: 2016
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2反应器是一种革命性的蚀刻沉积室，设计用于半导体加工。是AMAT SPECTOR系列先进化学产品的最新突破之一。AMAT Endura 2是第二代蚀刻沉积平台，它具有几项创新，使其在竞争中脱颖而出。APPLICED MATERIALS Endura 2具有独特的双泵浦配置,使腔室能够达到前所未有的腔室压力和工艺参数。它还具有降低腔室体积和降低腔室轮廓的特点，从而大大减少了特定晶片尺寸下可用于沉积的总表面积，从而提高了利用率，降低了每晶片的成本。反应器设有蚀刻室和沉积室两个室。蚀刻室采用平衡、实时的反应性离子蚀刻技术，形成特征剖面，精确控制长宽比和地形。沉积室利用感应耦合等离子体（ICP）源沉积厚度均匀、成分控制精确的薄膜。Endura 2还具有自动晶片处理机制，例如可以在腔室之间准确高效地传输晶片的机器人臂和识别单个晶片并跟踪其在过程中位置的晶片映射设备。它还具有复杂的软件来监测和优化蚀刻和沉积过程的参数。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2附带了一个先进的数据采集和分析系统。这个先进的单元提供对蚀刻和沉积参数的实时监测以及后处理分析。AMAT Endura 2机设计具有较高的安全标准。它具有几个冗余的安全功能，如紧急关闭系统、紧急通风系统和先进的监控系统。这些功能确保人员和设备的安全。APPLICED MATERIALS Endura 2是一个革命性的蚀刻沉积室，为半导体加工业设定了新的标准。它具有独特的双泵浦配置、低腔轮廓和自动化晶圆处理机制，使其达到前所未有的过程控制和精度水平。此外，其先进的数据采集和分析工具对过程参数提供了可行的见解。其先进的安全特性进一步确保了安全性和可靠性。因此，Endura 2是低成本、高性能、高效半导体加工的理想选择。
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