二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 300mm Chamber #9125373 待售

AMAT （APPLICED MATERIALS） Endura 300 mm Chamber是一种生产级化学气相沉积晶片反应器，使薄膜能够灵活、精确地沉积到基板晶片和其他基板上。这种创新的化学气相沉积设备设计用于半导体、LED、微机电系统和光电应用。该系统使材料能够在低压下沉积用于晶体薄膜，在受控温度下沉积以实现最佳蒸气吸收，并具有精确的通量控制。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 300 mm Chamber包括一个具有高精度真空密封的垂直反应堆室、一个自动化的精密气体喷射单元和一个材料进料歧管。这样可以在整个晶片基板上均匀沉积薄膜。自动喷气机通过精确控制和调节气体进料流量，确保了准确、可重复的沉积。进料歧管反过来允许在整个晶片表面积上精确且均匀的气体分布，以防止薄膜特性的变化。此外，该反应堆还配备了基板加热器和炉二铬加热元件的独立温度控制装置，可实现精确的温度控制和最佳的蒸气吸收。该腔室还具有集成的过程控制负载锁定功能，可实现更快的沉积时间和更大的生产吞吐量。此外，它的自对准磁悬浮轴承允许最小转移跳动，允许精确和均匀的薄膜沉积。AMAT Endura 300 mm腔室的整体设计重点是高效沉积优质薄膜。这个先进的腔室既可以处理复杂的图样，也可以处理基本的单层基板。它比其他传统沉积系统更快、更可靠、更具成本效益，使其成为高通量生产面膜和利基材料沉积的理想选择。