二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP #9373208 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP
ID: 9373208
晶圆大小: 6"
PVD Sputtering system, 6".
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP是一种垂直热处理(VHP)反应器,设计用于器件半导体制造。这座反应堆是专门为满足半导体工业日益增长的要求而量身定制的,其中包括高精度和重复性。AMAT Endura 5500 VHP设计用于在反应堆内部提供动力和高温控制的均匀性。这是使用独立支持、垂直对齐的3000系列射频源阵列完成的,这些源既充当离子源,又充当热源。3000系列射频源使反应堆能够向任何合理取向的底物输送动力,从而能够对有模式的能量释放进行精细控制。利用这种能力,APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP可以精确精确地调节表面温度和功率水平,从而实现高温和低能解。反应堆还有一个先进的均匀性控制系统,能够准确调整配电。这样可以确保在整个曲面上输出均匀的能量,从而创建所需的均匀性和精度。另外,反应堆设有低电弧室,降低了室内静电放电的风险。这样可以安全操作。Endura 5500 VHP利用最新的热处理技术,包括惰性气体注入和真空技术,减少蚀刻和沉积过程中的颗粒和杂质。该系统建立在一个ISO-14644-1的洁净室标准上,使反应堆内的所有部件都能得到相同水平的洁净度。这样可以确保室内环境的一致性和近乎完美,以提供统一的、可重复的结果。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP还具有出色的工艺监控功能,使操作员能够实时查看温度和工艺条件。此外,它的用户友好、图形化用户界面使配置参数和选择配方变得容易,从而使设备能够成功运行。AMAT Endura 5500 VHP是一种先进的垂直热处理(VHP)反应堆,旨在满足半导体行业的高科技需求。它由独立支撑、垂直对齐的3000系列射频源组成的阵列,可以对基板加热和功率水平进行精细控制,而其低电弧室降低静电放电的风险。该反应堆还配备了先进的均匀控制系统、惰性气体注入、真空技术和ISO-14644-1洁净室标准,以产生一致和可重复的结果。用户友好的图形用户界面及其工艺监控功能使APPLIED MATERIALS Endura 5500 VHP成为任何半导体生产的可靠安全设备。
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