二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #190624 待售

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ID: 190624
晶圆大小: 6"
优质的: 1991
PVD Sputtering system, 6" Chamber Type: 4 Chamber (1 Standard Body, 3 Wide Body), Pre-Clean 1 Type Process: Al, Ti, TiN No missing parts 1 STD-Ti (clamp) 2 Wide-AL (A101) 3 Wide-AL (A101) 4 STD-Ti (clamp) 5 - A pass B cool C PC2 D PC2 E orienter-degas F orienter-degas Buffer HP Xfer HP LL narrow Magnet dura and G12 1991 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种多功能反应堆,专为半导体市场的广泛应用而设计。用于化学气相沉积(CVD)、蚀刻、氧化、扩散等多种过程。AKT Endura 5500是一款具有原位快速热处理能力和无与伦比的温度均匀性的热处理设备。它具有高达1700 °C(3100 °F)的高温范围,使其适合一系列先进的半导体材料。该反应器设计具有双等离子体操作能力,改进了材料沉积过程控制。该反应器还采用离子束沉积技术,在晶圆上实现精确的沉积均匀性。AMAT ENDURA 5500具有5.7英寸晶圆容量,并配有两个独立的加热区。这样就有更好的机会在晶圆上获得均匀的热分布。AMAT Endura 5500还配备了石墨敏感器,提供出色的热管理和均匀性。AKT ENDURA 5500还具有自动化过程控制功能,具有计算机化系统和专用的易于使用的软件。该单元提供了一致的工艺性能和更快的工艺时间,而其静电卡盘晶片持有者则提供了高水平的晶片平整度和出色的均匀性。Endura 5500的其他关键特性包括卡带到卡带传输机和用于精确晶圆映射的集成晶圆映射功能。此外,反应器具有保形涂层室,为低k材料提供了改进的保形涂层质量。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500反应堆具有业界领先的、无与伦比的温度控制和一致性水平,为各种应用提供了最佳的工艺性能。它非常适合加工各种材料,包括用于下一代半导体器件的先进材料。其强大的设计和领先的技术,加上其易用性,使其成为半导体应用的首选。
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