二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #293769416 待售
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ID: 293769416
晶圆大小: 6"
优质的: 1993
PVD System, 6"
HP Buffer robot
HP Transfer robot
Wafer type: JMF
Type / Process:
Chamber 1, 3 / AiPVD
Chamber 2 / TiPVD
Chamber A / Clean cool
Chamber B / Cool down
Chamber E, F / Orienter / Degas
Loadlock A/B:
Type: Narrow body LL
Indexer type: Manual
NESLAB III Chiller
(2) 9600 Water cooled cryo compressors
(5) CTI-CRYOGENICS OnBoard 8F Cryo pumps
HORIBA / STEC 4000 Mass Flow Controller (MFC)
Monitor
Power supply: 150 A, 50 Hz
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于半导体和其他先进工业应用。它能够进行广泛的沉积过程，从均匀层的简单气相沉积到堆迭层的更复杂沉积或不同材料的图样沉积。该设备采用了一种新型的无声型、高性能配气系统，并配有耐高温灯丝管，提供稳定、均匀的气流。AKT Endura 5500的主体采用坚固的不锈钢框架构成，里面装有多种隔热隔热室，每个隔热室都装有独立的加热和冷却单元。主腔室能够达到高达1200摄氏度的温度，而其他辅助腔室可以达到高达800摄氏度的温度。该室还被划分为两个单独的供气区，以便对各种材料进行额外清洁处理。这种装置最显着的特点之一是它的多区加热机，它允许在腔室的每一个区域进行精确的温度控制。该工具能够同时加热不同的组件,并提供一定程度的粒度,从而可以应用非常具体的参数和测量。此外，AMAT ENDURA 5500还拥有变频驱动电机等节能创新，以降低运营能源成本。此设备的其他功能包括其高级工艺监控资产,该资产可以检测、监控和报告各种工艺参数,以及其原位清洁和再生组件。该设备也是模块化的，这意味着它可以很容易地进行升级和配置，以适应用户不断变化的需求。例如,AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT ENDURA 5500可以轻松连接到允许远程操作或数据收集的远程控制器,甚至可以连接到一系列传感器以改进过程监控。总体而言,APPLIED MATERIALS Endura 5500提供的特性和功能相结合,使其成为需要密集温度和过程控制的应用的理想选择,例如半导体制造、高级光学和其他工业应用。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500具有先进的控制系统、高效的操作以及坚固的结构和设计,非常适合任何需要可靠和一致沉积工艺的工业应用。
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