二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9101660 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种最先进的低压化学气相沉积（LPCVD）反应器，旨在满足当今各种研究和制造应用中的性能要求。这种节能设备采用专利的"高性能"技术,提供了安全、可重复和可靠的环境。模块化设计允许将反应堆配置为满足应用程序的特定需求。该设计采用了强大的"受控环境"机器人技术，确保了准确、可重复和高效的基板加载和处理。AKT Endura 5500采用高效的热管理技术来实现统一、可重复的工艺结果。灵活的工艺架构能够支撑多种材料，如单层和多层金属、氧化物、氮化物、硅和二氧化硅。LPCVD环境在各种晶圆尺寸上均匀、快速地产生均匀的高性能薄膜层。采用动态腔室压力控制器和有效的热管理技术，设计出与外部条件隔绝且可重复性强的工艺区域。AMAT ENDURA 5500中的机载温度范围从20C延伸到1000C,以实现精确的沉积速率和均匀的层厚度。该系统旨在满足特定的客户需求,允许在给定范围内进行精确的温度控制。高精度自动化平台允许在处理过程中加载和处理较小或较大的基板尺寸,从而提高灵活性。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500单元还包括多种集成工具，如用于防止颗粒污染的先进工艺监测机和强大的物料处理工具。流程监控资产具有方便的警报功能,允许您在流程参数超出既定限制时快速进行调整。集成物料处理模型可提供准确、可重复的过程物料交付。该设备还包括超低颗粒喷涂技术，以尽量减少有害颗粒的扩散，确保清洁、安全的基板。此外,Endura 5500还使用自动控制系统提高了可靠性和可重复性。总体而言，AMAT Endura 5500是一个功能强大且可靠的LPCVD腔室，旨在优化各种工艺，以实现精确控制、提高吞吐量和效率。该装置具有集成的安全性、动态温度控制、先进的过程监控和直观的物料处理系统，可提供精确、安全和可重复的薄膜沉积。