二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9112164 待售

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ID: 9112164
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
PVD System, 8" Process: STD AL/TiN Wafer type: SNNF Buffer robot: HP Transfer robot: HP Wide body load lock with auto-tilt in/out Sliding sensor kit: no Chambers A/B: Chamber type: cool down Chamber lid: metal lid Cooling method: By PCW / By Gas Chamber C: Chamber type: empty Chamber process: PCII RF generator / DC power supply 1: LF-10 RF generator / DC power supply 2: CPS-1001 RF generator / DC power supply 3: - Turbo / cryo pump type: 361C Chamber D: - Chamber E: Orient / Degas Chmaber F: Orient / Degas Chamber 1: Chamber type: STD body Chamber process: TiN RF generator / DC power supply 1: MDX-L12 RF generator / DC power supply 2: - RF generator / DC power supply 3: - Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F Chambers 2: Chamber type: wide body Chamber process: AL RF generator / DC power supply 1: - RF generator / DC power supply 2: - RF generator / DC power supply 3: - Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F Chambers 3: Chamber type: wide body Chamber process: AL RF generator / DC power supply 1: MDX-L12 RF generator / DC power supply 2: - RF generator / DC power supply 3: - Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F Chamber 4: Chamber type: STD body Chamber process: TI RF generator / DC power supply 1: - RF generator / DC power supply 2: - RF generator / DC power supply 3: - Turbo / cryo pump type: CTI OB-8F 1999 vintage.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500反应堆是一种用于半导体器件制造的高性能、多室沉积设备。它能够对各种底物进行广泛的工艺应用,包括氧化物、氮化物和金属沉积。AKT Endura 5500提供了对厚度均匀性、特征一致性和先进层对层步骤的高度精确控制,用于前沿设备制造。AMAT ENDURA 5500具有先进的真空系统和高效的再循环化学品输送装置,通过提高能效、均匀性、降低机器压力和消除有害的气体副产品,最大限度地降低总体运营成本和环境影响。它还能够为先进的晶圆工艺控制提供具有广泛参数的温控基板输送工具。ENDURA 5500室设计利用圆形几何优化均匀性、温度、压力等工艺参数。其先进的气体分裂控制使一个或两个独立的固体、液体或气态试剂能够高效且均匀地输送。该资产还提供了先进的热洪水冷却工艺,以实现高效、低排放的工艺控制,并提供各种喷射器设计,以适应各种工艺条件和要求。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500提供了一个直观的图形用户界面,可以快速定义和管理过程配方,并利用模型的多室参数。在生产的开发和验证阶段,广泛的API可用于与过程监测和跟踪集成。设备中采用的先进工艺控制算法保证了准确的生产和高产效果。Endura 5500提供卓越的可靠性和性能,在单个系统中可同时执行多达40个过程步骤。其先进的材料兼容性、工艺多功能性以及灵活、高性能,可以满足业界最严格的需求。该设备专为可扩展性而设计,并与各种前体配合使用,从而方便产品扩展和提高工艺吞吐量。
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