二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9117504 待售
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ID: 9117504
PVD System, 8"
Process: AL Sputter
Robot information:
Buffer: AMAT HP
Transfer: AMAT HP
Load Lock information:
Wide body with Auto tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber information:
Chamber A
Chamber type: Pass Thru
Chamber Lid: Metal Lid
Chamber B
Chamber type: Cool down
Chamber Lid: Metal Lid
Cooling method: By PCW / By Gas
Chamber C:
Chamber Type: PC II
Chamber process: Preclean
RF Gen/DC power supply 1: CPS-1001
RF Gen/DC power supply 2: LF-10
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: 361C
Chamber D:
N/A
Chamber E:
Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1:
Chamber Type: Wide body
Chamber process: TiN
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: (2) Position
Chamber 2:
Chamber Type: STD Body
Chamber process: AL
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: 2 Position
Chamber 3:
Chamber Type STD Body
Chamber process AL
RF Gen/DC power supply 1 MDX-L12
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type CTI OB-8F
Gate Valve 2 Position
Chamber 4:
Chamber Type: Wide body
Chamber process: TiN
RF Gen/DC power supply 1: MDX-L18
RF Gen/DC power supply 2
RF Gen/DC power supply 3
Turbo/Cryo pump Type: CTI OB-8F
Gate Valve: (2) Position
1999 vintage.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种先进的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于高性能半导体和平板显示应用。它是一种单晶片、大气压、盒式磁带到盒式磁带的解决方桉，它提供了非常先进、过程适应性强的技术，具有出色的腔室性能和优越的晶片均匀性。这种创新的CVD反应堆提供了卓越的工艺均匀性，极低的循环时间，并且在广泛的工艺化学体系中具有很高的通量，同时保持了出色的腔室特性。AKT Endura 5500可提供始终如一的高品质薄膜,满足苛刻的工艺要求。端到端工艺控制和能力保证了优越的晶片质量和无针孔薄膜。该系统还通过动态气体再平衡提供了优越的工艺划分灵活性，主动调整CVD反应堆的激光性能，以最大限度地提高一个卡带内的晶圆均匀性，累积多个卡带，以及超越。该系统与更广泛的基材（如玻璃、硅和石英）一致地提供改进的工艺。自动化和用户可定制、配方驱动的控制软件可实现极其精确的腔室控制、优化操作、缩短周期时间和提高产量。自动清除和Clean™常规功能允许快速和可重复的处理周期。AMAT ENDURA 5500反应堆还具有先进的运动控制技术，如无扫描控制以尽量减少时间和均匀性变化，以及优越的晶圆传输以减少循环时间和可重复过程的产量。最后但并非最不重要的一点是，该系统实现了更快的晶片Changeover™（FWC™）和改进的激光Reflection™（ILR™），通过显着改善晶片转换性能和提供虚拟的清洁室般的气氛，提高了反应堆的可靠性和正常运行时间。总体而言，AMAT/AKT ENDURA 5500 CVD反应堆提供了适用于各种底物的最高性能、最高质量、可重复的工艺。它是当今最先进的CVD反应堆，非常适合高性能、精密半导体和平板显示应用。
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