二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9134838 待售
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已售出
ID: 9134838
优质的: 1999
Frame,
AL sputter
Chamber information
a) Chamber A
- Chamber type: pass thru
- Chamber lid: metal lid
b) Chamber B
- Chamber type: cool down
- Chamber lid: metal lid
- Cooling method: By PCW / by gas
c) Chamber C
- Chamber type:
- Chamber process: PC II
- RF gen/DC power supply 1: Preclean
- RF gen/DC power supply 2: CPS-1001
- Turbo/cryo pump type: LF-10
- Turbo/cryo pump Type: 361C
e) Chamber E
- Chamber type: orient/degas
f) Chamber F
- Chamber type: orient/degas
g) Chamber 1
- Chamber type: wide body
- Chamber process: TiN
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 Position
h) Chamber 2
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
i) Chamber 3
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) Chamber 4
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) System component
System Controller
- V440 SBC
- Ion gauge controller
- 15V, 24V DC power supply
- 5Ph driver
- 2Ph driver
Generator rack#1
- MDX-L12 3ea , MDX-L18 1ea
- Turbo controller 1ea
Generator rack#2
- CPS-1001 , LF-10
Cryo compressor
- 9600 comp 2ea
AC rack
- Short body
Cryo Pump
- 2Ph cryo OF-8F 6ea
1999 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种半导体直列式反应器，用于将多种层沉积到半导体晶圆上。该反应堆利用气相化学沉积（VCD）工艺产生超光滑、高效的层。AKT Endura 5500旨在使工艺工程师能够快速轻松地设置其VCD工艺。AMAT ENDURA 5500是生产级反应堆，周期时间短，吞吐量高。每小时最多可产生十几个晶圆，周期时间仅为每晶圆5秒。反应堆的自适应控制技术不断调整和优化工艺参数，确保了膜的一致性、高质量。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500通过其串联闭环控制系统增强了对该过程的控制。该系统能够提供关键工艺参数的实时检测和反馈，如温度、压力、薄膜厚度和均匀性，从而对沉积过程进行高效控制，保证层级一致。此外，AMAT Endura 5500提供与其他半导体加工设备的全面集成，可以连接到新建的工艺工具，也可以改装到现有工具。反应堆在加热和冷却操作中提供0.1°的可重复性，确保可重复结果。应用材料Endura 5500利用气相化学沉积工艺将层沉积到晶片上，速度和特性都非常出色。这种VCD工艺利用含金属材料的细丝，然后加热，然后蒸发。当汽化的材料到达晶圆时，会变成薄膜层。这种层生产方法消除了对掩蔽的需要，允许以高速和精确的方式生产层。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500一般可以产生低电阻率钨层，以及电导率高、电阻率低等特性的铜钨和铝层。这使得反应堆适用于各种各样的半导体工艺，如IC器件、MEM器件，以及各种类型的LED和光电产品。AKT ENDURA 5500是生产级反应堆，对沉积过程的控制水平堪称典范，结果准确一致，与现有加工设备集成。这是任何半导体制造工艺必不可少的工具。
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