二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9142619 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是为半导体制造而设计的高性能epi就绪反应器。这种强大的反应堆利用先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术在高温下沉积薄膜，用于各种应用。AKT Endura 5500凭借其高密度的等离子体源，提供了具有卓越均匀性、晶圆内均匀性和出色的膜厚度控制的富含特征的薄膜。AMAT ENDURA 5500具有一个25.4英寸乘25.4英寸的连续区域石英工艺室,内径为20.1英寸,以及一个支持最高1000W功率的业界领先的索引表。该室拥有仅43英寸的细长总深度，以最大限度地利用地板空间。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500具有较大的蚀刻区域,可对多达八个批次的基板进行氧化物蚀刻和线性蚀刻。高速晶圆穿梭使晶圆在批量环境中均匀加热，并支持广泛的基材尺寸。反应堆的射频功率耦合系统是专门为等离子体源与工艺室的优越匹配而设计的，具有很高的稳定性和平滑的性能。AKT ENDURA 5500还提供了从低频到高频、压力、氮气流速功率、功率水平等广泛的工艺参数窗口。可选的高密度等离子体源允许更好地整合高水平沉积过程和单片薄膜。Endura 5500凭借其正在申请专利的"Centuri"系统,在单个晶片批次内提供了无与伦比的统一性。该系统将工艺气体动态分配给每个晶片，以实现无与伦比的均匀性和可重复性。反应堆还具有两个区域设定点控制，允许不同应用和基板尺寸的可变流量。APPLICED MATERIALS Endura 5500还提供了一个可选的自动基板边缘托盘，有助于减少基板边缘上的薄膜沉积。ENDURA 5500上的高级控制软件提供精确的过程控制，包括实时数据和日志收集。该软件还具有独特的GasBox控制模块，可以自动调整气体级联设置，以达到最佳膜厚度和均匀性。AMAT Endura 5500还包括晶圆均匀性映射和高级诊断库等功能,可快速优化过程结果。总体而言，APPLIED MATERIALS ENDURA 5500是一种可靠、高性能的反应堆，非常适合半导体制造工艺。配备了最新的技术，这种强大的反应堆为您的所有沉积、蚀刻和氮化物需求提供了统一、精确和可重复性。