二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9186543 待售

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ID: 9186543
PVD Systems, 12" INTEL FAB68 Intel original configuration Process group Retrofit B (2) TTN, NiPt NISPUT (2) SiCoNi + (NiPt+NiPt) + (2) Versa TTN+Degas (2) TTN, NiPt CUALSPUT MHM (2) TTN+TTN+Degas CU, TTN, PCXT CUSPUT LDR PCXT + PCXT + (2) EnCoRe II TaN + Cu + Cu + Degas Suspect CU, TTN, PCXT BSI-BATTN PCXT + PCXT + (2) IMP Ti + (2) CVD TiN + Degas CU, TTN, PCXT BSI-PADAL PCXT + PCXT + Versa TTN + TTN+(2) HP Al + Degas.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是专为半导体工业中的高级介电蚀刻而设计的全晶圆工艺反应器。该反应工具提供一流的蚀刻均匀性和对压力、温度和流量的高级控制。它是创建高长宽比介电特性、高生产率和卓越工艺控制的最佳选择。AKT Endura 5500结合优越的光束产生提供卓越的性能。它在25-200摄氏度的过程相关温度下工作,偏置电压在0-600 VDC之间,可调节压力范围在0.2-1.0 torr之间。反应室采用先进的多室设计,提高了稳定性,提高了工艺灵活性。该系统采用高性能多阴极设计,为先进的介电蚀刻提供卓越的功率传递。反应堆提供先进的自动参数控制,使用户能够方便地监控、控制和调整过程参数,如温度、压力、流量和电压。这有助于确保流程得到最佳调整和监控,以获得一致和可重复的结果。它还包括高级反馈补偿,提供实时脉宽调制功率控制,以提高性能和精度。AMAT ENDURA 5500配备了升级的氮冷衬里,用于蚀刻高长宽比特征,并针对抗颗粒进行了优化,保护工艺和等离子体免受污染。集成的Liner Shield提高了生产的一致性和效率。它还拥有先进的空气反冲清洗系统,结合高压空气爆炸和增加的等离子体生成,彻底清洁工艺系统。反应堆还包括先进的用户友好软件。使用高性能建模,软件几乎可以为任何流程应用程序确定最高效的流程参数。这有助于降低可变性并优化流程以获得最佳性能。最后,AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500是专门为高级介电蚀刻而设计的首屈一指的全晶片工艺反应器之一。它是创建高长宽比介电特性、高生产率和卓越工艺控制的最佳选择。该反应堆包括多种先进功能,以确保用户获得快速可靠的结果。
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