二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9193019 待售
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已售出
ID: 9193019
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
PVD System, 8"
Wafer shape: SNNF
Chamber type / Location:
Ch-1 Copper SIP ENCORE CU
Ch-2 Refractory SIP ENCORE TA(N)
Ch-3 Refractory SIP ENCORE TA(N)
Cb-4 Copper SIP ENCORE CU
Ch-A Pass thru
Ch-B Cooldown with temp monitor
Ch-C Reactive preclean
Ch-D Reactive preclean
Ch-E Orientor ultra uniform O/D with temp feedback
Ch-F Orientor ultra uniform O/D with temp feedback
System safety equipment:
System EMO Type: Turn to release ETI compliant
Includes EMO button guard ring
Primary side trip amperage: 3P 600VAC 300 AINTCHG Trip unit
Circuit breaker on secondary: 600A
System water leak detector
Mainframe facility water flow
Electrical requirement:
Line frequency: 60 Hz
Line voltage: 480V
Transformer type: 480V; 225kVA
Main AC power inlet hole: Small
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种先进的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于半导体器件制造、平板显示器制造和专门研究领域等多种应用。反应堆设有两个静态PE-CVD室和两个动态溅射涂层室。每个会议厅都单独处理，以提高处理的灵活性，并允许在一个系统中进行多种流程组合。PE-CVD腔室提供了超低底物与底物方差的特殊膜均匀性和层重复性。该室配有一个工艺监测模块，可确保高性能薄膜的可靠和一致增长，而无需经常进行手动调整或校准。随附的真空泵提供低于10mTorr的基本压力，并确保清洁、低污染的工作环境，同时随附的气柜界面能够持续保持鲁棒性和可重复性。与传统的溅射涂层相比，动态溅射室的沉积速率明显提高，减少了溅射时间。在涂层循环过程中,可以改变功率水平,因此具有更大的灵活性。高源功率还允许在某些组件上有更高的沉积速率。随附的电子束枪发射电子，而不是离子，并产生不会损坏基板的正涂层增长率。除了腔室之外，AKT Endura 5500还包括一个带有图形用户界面的PC控制模块。此模块允许远程访问,使操作和编程相对简单。触摸屏控制面板为操作员提供了所有必要的控制参数，并允许微调设置，而不必打开反应堆。此外，它还具有许多诊断功能，以协助排除故障和优化反应堆设置。AMAT ENDURA 5500是处理需要非均匀关键加工的关键基材和基材时的可靠、可重复、经济高效的解决方桉。多室功能增加了系统的多功能性，提供了优越的均匀性和长期可重复性。它是针对高性能、低成本应用程序的完美解决方桉。
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