二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9193779 待售

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ID: 9193779
优质的: 2005
Oxide system Voltage: 480VAC, 30 Frequency: 60Hz (3) Wires / Ground Max system rating: 150KVA Ampere rating of largest load: 172-8A Interrupt current: 10,000 AMPS Full load current: 172.8A (5) Chambers: Chamber 1: Ti Chamber 2: Zr Chamber 3: Mo Chamber 4: Cr Chamber D: Ta 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500反应堆是为高质量研究和生产需求而设计的最先进的化学气相沉积设备。它具有直观、用户友好的软件,以及精确的工程和高级过程控制功能。AKT Endura 5500非常适合多种应用,包括超薄层材料和前体的沉积,金属氧化物和金属氮化物薄膜的无机和有机化学气相沉积(CVD),以及原子层沉积(ALD)。它是大面积薄膜生长的理想选择,具有大的磁感器尺寸、快速的响应时间、高度可定制的腔室配置以及快速的坡道速率。金属密封AMAT ENDURA 5500系统具有自动晶圆处理、可编程腔室配置和模块化电气单元。对于超薄层沉积,AKT ENDURA 5500出厂调谐的源配置提供了对沉积过程的精确控制。这些精密源减少基底干扰,以确保均匀沉积。APPLIED MATERIALS Endura 5500还具有双沉积源端口,使用户能够同时存放多种材料。5500建立在一个基础平台上,该平台设计用于在高真空和中真空过程中易于集成,从晶圆级薄膜沉积到纳米结构的气相合成。其不锈钢结构提供卓越的机械稳定性。腔室壁具有高度真空兼容的柔性进给通量,为工具和工艺传感器提供了进入腔室内部的外部通道。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500采用原位载荷锁定机,可快速高效地处理300 mm晶圆,具有气体净化和热烘烤功能,可用于在引入主沉积室之前测试工艺条件。这种负载锁定工具有助于最小化污染,确保均匀,可重现的薄膜沉积。5500包括先进的温度和压力控制系统来优化每个过程。每个工艺都经过精心设计,以确保整个腔室的精确温度控制。一个可选的基于泡泡的湿度控制资产允许用户使用各种来源,例如湿的前体和反应物以及加湿的气体,以支持具有极好均匀性的材料沉积。该型号具有多种安全特性,包括一个离子计超压监控设备,可随时监控腔室压力。一个安全传感器阵列不断监控,系统配备了各种各样的HMI和警报,以确保单位的完整性。总体而言,ENDURA 5500是一台坚固可靠的机器,为最佳薄膜沉积提供了一个精密而直观的控制平台。其用户友好的软件、通用的腔室配置和负载锁定工具,以及先进的安全功能,使其成为各种研究和生产应用的理想选择。
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