二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9208048 待售
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ID: 9208048
优质的: 2002
PVD System, 8"
Single board computer in controller: V452
Copper barrier / Seed
Wafer handling: SNNF
Front panel type: Light pen
Loadlock vents: Variable speed
Buffer / Transfer robot: HP
Blade material: Thin metal
Chamber A: Bypass
Chamber B: Cool
Chamber E: Degas
Chamber F: Degas
Chamber C: Pre clean
Vacuum pump type: Turbo/dry
RF Match: PVD 200
Cable length: 50 Feet
Pedestal type: Cylinder
Power supply 1: CPS-1001S
Power supply 2: RFPP LF10A
Chamber 1 / 2:
Body style: WB
Source type: VECTRA IMP
Power supply: MXD-L12M 12KW
Heater: B101
Dual TC amp kit: No
Pedestal: B101
Target: D-Bond
Magnet: RH-2
Magnet shim thx: 0.75 mm
Gasline fittings: VCR
Loadlock fittings: VCR
Process MFC-1: 1 Ar 100
Process MFC-2: 1 Ar 100
Paste chamber: No
System roughing pump type: Dry
Chamber cryo pump type: CTI OB-8F, 3 phase
Heat exchangers: 1000
Cryo compressors: 9600 X2
Umbilicals:
Mainframe to controller: 75 Feet
Mainframe to generator racks: 75 Feet
Mainframe to cryo compressor: 75 Feet
Main AC to system controller/sys AC: 75 Feet
System AC to primary generator rack: 50 Feet
Main AC to primary generator rack: 6 Feet
Main AC to pump frame: 50 Feet
Main AC to NESLAB heat exchanger: 50 Feet
Monitor cable: 50 Feet
2002 vintage.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种下一代等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，旨在为半导体器件制造中的各种薄膜应用提供可靠、高性能的沉积。该设备利用先进的等离子体技术，生产出具有卓越工艺控制的高质量、均匀的薄膜。AKT Endura 5500反应堆配备紧凑、易于维修的设计，非常适合高通量制造作业。该系统允许用户为每个腔室独立设置过程参数，对整个过程提供精确的控制和统一。这样可以确保薄膜沉积均匀一致，产生高质量的结果。AMAT ENDURA 5500还利用一系列先进的等离子体和气相技术来优化工艺性能和提高工艺可靠性。通过在非常一致的环境中提供均匀的沉积，该装置可以产生更厚、更薄和多层的薄膜，并具有精确的控制和可预测的结果。此外，AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT ENDURA 5500通过其先进的综合工艺监测、诊断和工艺优化能力，实现了出色的工艺控制。此外,AMAT Endura 5500还增强了安全性和可靠性。机器利用智能传感器不断监测等离子体和温度状况。这提供了有关工具状态的实时反馈,使操作员能够快速识别和解决任何潜在的性能问题。总体而言,AMAT/Endura 5500为半导体器件制造的薄膜沉积需求提供了易于使用、可靠和高效的解决方桉。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500凭借其先进的等离子体技术和集成的工艺监测和优化能力，提供了可靠、均匀、精确的沉积结果，非常适合大批量生产。
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