二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9242650 待售

ID: 9242650
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Sputtering system, 8" Robot: HP (Buffer and transfer) (3) Chambers Load lock: Wide Component included: NESLAB Chiller (2) CTI 9600 Compressor cryo Pump: CTI OB 8F 3PH Enhanced Chamber: PVD 4 Chamber E and F: Orient degass 1996 vintage.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种尖端、先进的PECVD(等离子增强化学气相沉积)反应器。这种反应堆的设计旨在将高质量的材料作为薄膜沉积,使其成为半导体工艺和储存装置制造等应用的理想选择。AKT Endura 5500具有独特的双频射频(RF)供电基板偏置,能够精确控制介电材料的沉积。它还配备了强大的动态射频供电系统,对不断变化的工艺条件提供瞬时响应,确保一致、可重复的工艺结果。AMAT ENDURA 5500旨在提供最大的生产率、可重复性和一致性。它采用获得专利的Catalyst®技术,支持多个射频源,并具有优化的二次腔室,可提高均匀性、厚度和成分控制。等离子体腔室是为极低功耗而设计的,允许它以更高的峰值功率运行,同时也减少了热偏移的可能性。另外,基板偏置控制在沉积介电膜时允许更高的精度和精确度。AKT ENDURA 5500具有较高的沉积速率,在多种基板上具有较高的薄膜厚度均匀性.它具有数字腔室压力控制器,用于精确控制基板温度和气体流动。先进的气体输送系统确保了精确的气体溷合物和适当的输送。多点热电偶和传感器阵列能够实时监测基板温度和均匀性。AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT ENDURA 5500专为最大工艺纬度和控制而设计。其数字化I/O端口提供对所有重要工艺参数的实时控制和监控。它具有自动调谐系统,可轻松可靠地调谐射频移位频率和相位,从而在整个过程中实现最大性能。ENDURA 5500专为满足当今要求更苛刻的半导体制造要求而设计。它通过重复可靠的处理提供了高质量的材料沉积,以提高设备性能。该反应堆经AMAT/APPLIED MATERIALS认证符合SEMI C39半导体制造设备标准设计和制造准则。
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