二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9363651 待售
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ID: 9363651
晶圆大小: 6"
PVD System, 6"
Pump
Gen rack
AC rack
Chiller
Chambers:
(2) Ti Chamber
(2) Cu Chamber
(2) Degas chamber
PC Chamber
Durasource TTN
Chamber C: PC II
Chamber F (STD Degas): Clear wafers
Chamber E (STD Degas): Thin clear wafers
TGV
Direct gas injection
HP+ Buffer robot
Xfer has VHP
Vita system controller
EZ LCF On Xfer.
AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura 5500是一种先进的半导体湿式清洁反应堆，旨在满足最复杂、最具挑战性的半导体应用需求。这种创新的反应堆旨在提供快速高效的湿式清洁，具有卓越的表面光洁度和卓越的工艺控制。它具有先进的等离子体发生器、强大的UV-VIS光源和紧凑的反应堆室。AKT Endura 5500是晶圆和其他基材全表面和有限面积清洗的理想选择。它使用专有的专利等离子体发生器，创造一个微调的气氛，以最佳的湿式清洁性能。发电机包含Ar/H2等离子体生产模块和UV-VIS光源模块，这些模块可以独立调整以产生精确调谐的等离子体和光组合。这允许在各种不同的基板上进行灵活的清洁配置。AMAT ENDURA 5500的反应室设计为最大限度地隔离工艺气体和污染物。其先进的气流设备和与等离子体发生器的紧密集成确保了即使在高压气流的存在下清洁溶液的平缓和均匀流动。腔室还设有高效过滤器，以清除过程中的颗粒污染，延长腔室寿命。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500还设计了安全壳和安全特性。它配备了包括流程监控模块、单元控制器和触摸屏接口在内的全面运行和集成的安全系统。这样可以确保机器安全运行并按照规定的程序进行操作。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500是一种可靠、高效且经济实惠的湿洗工具,旨在满足晶圆加工客户的最高期望。它将纯等离子体技术与湿式清洗的行之有效相结合，提供卓越的工艺控制和表面光洁度。以其先进的技术，非常适合在半导体制造、晶圆制造研发中的高性能、高精度的应用。
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