二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9373105 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor是一种高精度沉积设备，旨在为半导体和光电技术创造高质量的薄膜微观结构。该系统利用化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）和物理气相沉积（PVD）工艺在基板上沉积超热膜层。AKT Endura 5500具有高度可定制性,可针对特定需求进行模块化设计和定制。AMAT ENDURA 5500利用了与所有类型的前体化学物质兼容的玻璃加热器管。管子可以加热到950°C，其宽广的温度范围允许在特定条件下创建薄膜层。它具有用于全自动样品处理的双快门配置，具有快速的装卸时间。该单元还采用了高性能自动淋浴头快门，优化了薄膜的均匀性和厚度。AMAT Endura 5500利用陶瓷绝缘体衬里进行金属有机CVD和ALD等应用。它还可以在一系列不同的材料中加入衬里，用于专门的沉积过程。该机还具有全自动压力和成分控制工具，可调节每一膜沉积的沉积压力和腔室成分。这样可以确保在整个过程中保持最佳条件。在过程验证和数据收集方面，AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500结合了自动端点检测系统，如石英晶体微平衡（QCM）、椭圆偏振法以及光学和电气测试。该反应器还利用射频等离子体和电屏障，允许薄膜均匀和可重复的沉积。ENDURA 5500提供了广泛的过程控制和监控能力，如多区腔室温度控制、可变功率过程气体定位、动力斜坡等。APPLIED MATERIALS ENDURA 5500提供了先进的均匀性控制,能够监控和控制薄膜厚度和均匀性。它还能提供2D/3D的原位沉积均匀映射能力。此外,它的多区温度控制资产使用户能够控制薄膜的沉积速率,以确保该过程在设定的规格内运行。总体而言，Endura 5500反应堆是为薄膜微结构提供高精度沉积的绝佳选择。它提供了一个用户友好的界面、各种自定义流程的选项以及广泛的流程监视和控制功能。由于它的多功能性，这种模型非常适合一系列的应用，包括半导体和光电技术。