二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #293757041 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293757041
晶圆大小: 12"
优质的: 2009
PVD System, 12"
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL是一种等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，是一种高端、高性能的沉积设备。该系统旨在生产用于半导体等行业的薄膜。它是一种基于底物的气相沉积技术，通常用于沉积氧化物、氮化物、多晶硅、金属和其他半导体材料，用于一系列应用。AMAT Endura CL利用具有双纵向磁控管的热蒸发器，并配有低压电容耦合等离子体（CPL）源，以实现原子层沉积（ALD）等精密沉积应用。该单元还具有一个亚层冷壁室，用于在100°C和300°C的温度范围内沉积，以增加沉积速率，同时保持较低的底物温度。通过其两步过程,APPLIED MATERIALS Endura CL能够创建各种复杂结构,如异质结构、定制的厚度几何形状和内部应力梯度。利用此功能,客户可以在单个反应堆中配对CPL和ALD,以获得最佳性能。机器还提供了一个自动化的控制工具，以简化配方和放松优化过程，同时实现高沉积可重复性。该资产具备先进的集成软件和硬件功能,旨在促进易用性和改进效果。此外,板载诊断模型还处理预防性维护,以减少停机时间并防止不必要的服务请求。Endura CL旨在提高生产效率、设备可靠性和工艺灵活性,以满足客户在半导体行业的生产需求。两种沉积技术的集成通过结合、优化和控制两种不同沉积技术的参数，帮助客户缩短产品上市时间。此外,由于AMAT/APPLICED MATERIALS Endura CL,客户可以受益于高吞吐量和低拥有成本
还没有评论