二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #293829676 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL是一种高度通用的多用途共溅射物理气相沉积（PVD）反应器。该设备可执行多种任务，如现代集成电路制造中使用的金属、介电和半导体材料的蚀刻、沉积和抛光。AMAT Endura CL反应器效率高，能快速产生具有优异均匀性和附着力的高质量涂层。这种反应堆的设计具有最大的工艺灵活性，因为它有多种变化，可以将材料沉积在薄至20埃的层中，因此非常适合半导体器件制造。APPLIED MATERIALS Endura CL反应堆的关键工艺部件包括射频源、射频电源、电磁源、电源。射频源是用于产生高频等离子体的高频发生器。射频电源用于控制射频源的功率水平，允许对等离子体进行精确控制。电磁源用于在等离子体室中产生均匀的电场，并由电源供电。Endura CL反应器还具有真空室，能够在沉积过程中维持室内的低压环境。真空室还配备了涡轮分子泵和吸气泵，在溅射过程中保持室内清洁干燥的条件。此外，腔室与惰性气源相连，允许将惰性气体引入腔室，以帮助确保沉积过程中等离子体的均匀性和稳定性。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL反应器能够提供卓越的材料性能控制和提高沉积速率。该系统还具有各种灵敏度设置，能够准确和可重复地沉积均匀和接近网状的涂层。此外，该单元的工艺参数是完全可调的，允许灵活不同的膜要求。AMAT Endura CL的其他特点包括支持高速沉积速率的多目标设计和基于陶瓷的、无污染的共溅射工艺。总体而言,APPLICED MATERIALS Endura CL是一种高效可靠的溅射PVD反应器机器.它非常适合广泛的应用，从生产现场发射显示器到半导体存储器。Endura CL具有用户友好的操作和出色的工艺控制,是满足任何高级PVD工艺要求的理想解决方桉。