二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9247978 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9247978
System Includes: (2) CU Chambers (2) Heater chambers (2) Etch chambers (3) RF Power racks (3) AC Racks TA Chamber Chiller FI Buffer chamber.
AMAT/APPLICED MATERIALS Endura CL是一种高通量的集群级反应器,设计用于半导体工业的高容量、精密蚀刻和沉积应用。AMAT Endura CL反应器可以单步处理高长宽比(HAR)和复杂结构。它配备了一个集成的集群系统,包括两个处理室、两个装载锁、一个预处理室和一个后处理室。APPLIED MATERIALS Endura CL的第一个加工室是高密度等离子体蚀刻室。它有一个四电极,13.56 MHz的射频等离子体系统,与氢、氯和氟基化学相兼容。该室还设有用于均匀等离子体分布的扩散淋浴头、用于气流控制的质量流量控制器(MFC)和用于排气的涡轮泵。Endura CL的第二处理室是高速沉积室,设计有双线圈平面线圈源。这种多腔室技术允许使用同一工具处理小型、高长宽比(HAR)结构和复杂结构。该室还具有用于过程控制的射频和直流电源、用于均匀性的扩散淋浴以及用于过度蚀刻的集成洗涤器。预处理室在加工前用于预清洗基板,后处理室用于保护装置免受污染,防止不需要的材料沉积。后处理室配有离子泵和集成洗涤器选项,用于蚀刻后的清洗和清洗。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL的载荷锁采用自动柔性机器人设计,提供快速、低颗粒载荷和卸载操作。该机器人与工具集保持一致,以确保平稳运行和最小化粒子。AMAT Endura CL专为大批量生产而设计,配备24小时远程监控系统,以实现在线维护和监控。该反应器非常适合制造MEMS、集成电路产品和薄膜器件。它是一种高效的多腔蚀刻和沉积工具,能够处理各种基材、几何形状、材料和工艺。
还没有评论