二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9271325 待售
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ID: 9271325
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
PVD System, 12"
Process: CH-1_Ti / CH-2_AL / CH-3_AL / CH-E&F_Degas
2003 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Endura CL是一种先进的翻盖反应器设备，专门设计用于沉积具有高度一致性和均匀性的纳米电子材料。AMAT Endura CL的腔室结构采用抗蚀刻陶瓷结构，确保了卓越的工艺效果。APPLICED MATERIALS Endura CL系统配备真空技术，通过增强对流提供最大晶圆覆盖范围。它具有一个传送带传热单元，以确保整个基板表面精确的温度均匀性。此外，它的低水蒸气压力真空保证了高通量和低颗粒问题在界面。Endura CL的设计支持多种不同的工艺技术，包括快速热处理（RTP）以及电化学沉积（ECD）和分子束外延（MBE）。它能够进行高达1,200 °C的高温处理，并具有高达1,300℃的氯气环境。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL也能支持结晶、氧化膜沉积、氮化物沉积和欧姆接触应用。AMAT Endura CL是业界最先进的低压化学气相沉积（LPCVD）反应堆,具有高度可定制的设计,允许在此基础上构建定制工具。它具有直观的控制软件,可用于创建定制配方,以实现最佳的流程吞吐量和产量。反应堆可用于多种薄膜应用，包括互连层、层间介电（ILD）、屏障和扩散层以及钝化层。它的设计赋予了它处理广泛的材料的灵活性，包括硅-的、的、的、的、的、的、氮化物和多晶硅膜。APPLICED MATERIALS Endura CL机是专门为加工直径达200毫米的晶片而设计的。它还提供了串联过程监控工具（PST）以及端点控制资产,可帮助用户最大限度地提高产量并优化整个过程性能。最后，Endura CL是一种强大的翻盖反应器模型，为纳米电子材料的沉积提供了优越的一致性和均匀性。反应堆配备了多种先进功能，完全可定制，以满足客户的需求。它还能够通过高温处理和可定制的工具设计处理各种材料和应用。
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