二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9276760 待售
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ID: 9276760
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
PVD System, 12"
(3) Chambers
Chamber 1: Ti
Chamber 2: Al
Chamber 3: AL
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL是一种反应器,旨在使工艺工程师能够在各种薄膜应用中进行钨化学气相沉积(CVD)。这一下一代反应堆适用于半导体工业,能够加工钨和其他金属层,用于薄膜半导体器件的沉积。AMAT Endura CL反应堆在高级水平上提供高精度、一致的棕褐色至棕褐色均匀性。该反应堆的设计目的是提供具有低运行端楔形变化的高度可靠和可重复的CVD工艺。APPLICED MATERIALS Endura CL的集成控制设备提供卓越的均匀性控制和全晶圆级工艺控制。此外,使用更高的灯丝容量和即时从上到下的均匀性控制可以加快刀具的恢复速度。此外,Endura CL反应堆还具有先进的晶圆加载和多晶圆卸载能力,使工艺工程师能够最大限度地提高吞吐量,最大限度地减少占地面积。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL结合了最先进的自动化技术,具有自动清洗、自动过程晶圆交换和自动粉末充电等多种选择。AMAT Endura CL还具有中程排气洗涤器、增加的工作空间等功能增强功能。该系统还利用先进的自动化技术进行准确的沉积和过程控制。特点包括集成的自动温度控制单元,确保精确和可重现的性能;一台用于精确和可重复输送气体的综合气流平衡控制机;以及增强精密控制和均匀性的沉积控制工具。此外,APPLIED MATERIALS Endura CL资产通过高级安全功能提高了工作效率和可靠性。反应堆配有紧急关机开关,可在操作员需要时立即关闭模型。该设备还具有自动燃气关机功能,以避免操作时需要手动调整燃气阀门。Endura CL反应堆是半导体制造商的理想选择,他们需要高精度、一致的钨CVD工艺,并且正在寻求提高吞吐量和成本效益。该反应堆包括一系列功能,旨在实现可靠、可重复的性能,最小的停机时间,同时继续处理具有高均匀性的晶片。
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