二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9281532 待售

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ID: 9281532
晶圆大小: 12
PVD System, 12" Chamber: Degas.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL反应器是一种用于晶体生长和半导体加工的先进、稳定漂移的设备,非常适合超高真空环境中的沉积和扩散过程。CL代表Crystal Layer,指的是反应堆中可以产生的高度可重现的薄膜,而Endura则表示沉积和扩散过程的长期稳定性。该系统配备了双丝源,因此两种材料可以集成到一个反应堆腔室中。整个单元可通过其无氦四重加热器加热至1500 °C,利用感应加热提高整个晶片的均匀性。此外,机器还有一个电源,可以提供多达750A的直流电.群E光束枪是为精确、高密度的光源应用而设计的;它有一个3轴扫描仪,用于均匀地分布电流密度。它利用大功率脉冲调制器为基板提供最大通量,并在LED或激光二极管中提供更长的寿命。该设计还采用了热壁式环境,从而提高了单晶片工艺的均匀性。扩散和氧化过程得益于固有的高温均匀性;热墙设计不需要额外的均匀化技术,从而在沉积过程中实现更高的控制和精度。反应室是一种低成本、闭环的工具,可导致具有成本效益和均匀的薄膜沉积。此外,它还有一个机器人集成的源交换器,提供快速和方便地访问各种材料。为提高沉积质量,资产具有基压特性,可以对过程中的气体压力进行精确控制。最后,该模型具有用于设备监控和过程控制的分析和反馈循环,提供了有关过程环境、过程参数以及系统健康和维护的详细信息。因此,AMAT Endura CL反应堆确保了可靠和可重复的外延生长,并提供了卓越的工艺效率、可靠性和均匀性。
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