二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9293628 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL Reactor是一种连续流动气相沉积设备，设计用于金属、介电和半导体材料上的低温原子层沉积（ALD）。该系统使氧化物、氮化物、硫化物和其他薄膜材料的沉积能够满足各种发展要求，如微机电系统（MEMS）的精密膜和先进的光学元件。AMAT Endura CL反应堆采用模块化设计，采用优越的材料建造，具有长期耐用性。它配备了双沉积源，允许同时操作两个独立的薄膜，这比传统的单源系统减少了单个沉积所需的时间。该单元还采用了先进的膜沉积技术，如顺序ALD和共沉积。顺序的ALD工艺可以使薄膜逐层生长,从而产生均匀、保形且高度调节的厚度薄膜。共沉积过程允许两种材料共沉积，用于控制和精确的薄膜性能。反应堆包括一个自动化的样品装载机和一个高效的气体歧管，能够输送不同的气体和前体。它还提供精确的温度和流量控制，以及脉冲反应性气体注入和定时批量气体流动，使ALD参数得到完美的控制。APPLICED MATERIALS Endura CL包括一个工作站，该工作站具有明亮的图形用户界面，便于监测和控制沉积过程。它配备了记录每一步的数据记录功能，并为自动配方步骤编程。该工具还包括过温警报、流量警报、安全阀等多种安全功能。总体而言，Endura CL反应堆为各种开发需求提供精确、可重复的薄膜沉积解决方桉。其先进的特性和高效的气体输送使其成为金属、介电和半导体材料的低温ALD的理想选择。这一可靠、用户友好的资产提供了优越的薄膜质量，这使得它完美的精确和均匀的薄膜沉积在广泛的底物。