二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9390614 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL反应器是一种具有磁增强感应耦合等离子体（ICP）源的等离子体蚀刻设备。这种高性能、高通量的系统是为各种材料的蚀刻而设计的，包括硅、的、的、的、的、的、的。AMAT Endura CL利用感应耦合等离子体（ICP）和电子回旋共振（ECR）源的独特组合,提高了蚀刻速率、优异的选择性和高质量的蚀刻轮廓。包括蚀刻室、等离子体源和电源在内的内部部件经过精密和精确的设计,以确保清洁、低缺陷的蚀刻表面。AMAT CL通过各种蚀刻参数实现了高吞吐量的微调。APPLICED MATERIALS Endura CL配备了四英寸蚀刻室和自动骑行升降机，用于精确的直径控制和尽可能高的选择性。Endura CL的ICP源由外部射频发电机、磁场发电机和微波源组成。ICP源产生具有高浓度离子和自由基的羽流，这些羽流更快地穿透工件以提高蚀刻速率。独特的电子回旋共振源允许蚀刻过程中底物温度较低，减少等离子体引起的损伤，实现更高的通量率和改进的光学性能。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL还提供了高度均匀的蚀刻轮廓和出色的蚀刻选择性，尤其是对于多层结构。其二维板设计为减少侧壁变化，允许高精度、高纵横比结构。高稳定室压力机在蚀刻过程中保证精密蚀刻参数。AMAT Endura CL是各种蚀刻应用的理想工具，如硅基板的深孔形成、MEMS/NEMS应用的高纵横比蚀刻，以及对其、石英、铝等硬质材料的精确微加工。基于氨基的高选择性特性减少了蚀刻结构中的污染，适合敏感的器件结构应用。它具有APPLIED MATERIALS Endura CL的所有功能,是高性能、高通量蚀刻过程的理想工具。