二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 #293822305 待售
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ID: 293822305
晶圆大小: 6"
优质的: 2019
PVD System, 6"
Dual loadloack
Dual transfer chamber & dual on-board 8F cryopumps
Orienter / degas module
Preclean chamber & LEYBOLD TMP361C Turbopump
Chamber 2:
PVD sputter chamber
On-board 8F cryopump
Chamber 3:
Wide body PVD sputter chamber
On-board 8F cryopump
Control cabinet
Generator rack
(2) Advanced energy pinnacle RF generators
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Helium compressors
Motor controller
EDWARDS iXL 1000 Vacuum pump
EDWARDS iXL120 vacuum pump
THERMO FISHER Recirculating chiller
COMDEL CDX-2000 dual RF generator
Power cabinet
Voltage: 208V
Frequency: 60Hz
RPM: 3ph
Currency: 150kVA
2019 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500是一种尖端的化学气相沉积(CVD)反应器,专为大批量制造先进半导体器件而设计。该反应器是半导体制造厂用来将各种材料的薄膜沉积到硅晶片上的关键工具,是集成电路生产的关键一步。AMAT Endura HP 5500的关键特性之一是其高吞吐量能力,允许在短时间内高效处理大量晶片。这是通过结合先进的自动化系统、优化的气流控制和改进的晶圆处理机制来实现的。该反应堆旨在最大限度地减少停机时间和提高生产率,使其成为大容量半导体制造设施的理想选择。APPLICED MATERIALS Endura HP 5500配备了多个工艺室,每个室能够同时执行不同的沉积过程。这可以提高制造过程的灵活性和效率,因为不同类型的薄膜可以并行沉积在晶片上。反应堆还配备了先进的温度控制系统,以确保晶片在沉积过程中的精确、均匀加热,从而导致高质量的薄膜生长和提高器件性能。反应堆设计用于处理广泛的材料,包括介电膜、金属膜和复合半导体。这种多功能性使得Endura HP 5500适合半导体制造的多种应用,从内存芯片到逻辑器件再到电源器件。反应堆还能够沉积厚度和性质各异的薄膜,使制造商能够量身定制工艺,以满足其特定的装置要求。在工艺控制方面,AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500具有先进的监控系统,以确保精确和可重现的沉积结果。反应堆配有实时计量工具,允许操作员在沉积过程中监测薄膜厚度、成分和均匀性。此反馈回路可实现过程优化和控制,从而提高胶片质量和产量。AMAT Endura HP 5500的设计也考虑到可持续性,采用节能组件和工艺,以尽量减少对环境的影响。反应堆配有减少有害副产品排放的废气减排系统,以及将气体消耗降至最低的高效气体输送系统。这些可持续性功能使APPLIED MATERIALS Endura HP 5500成为希望减少碳足迹并遵守环境法规的半导体制造商的首选。总体而言,Endura HP 5500是最先进的CVD反应堆,为大容量半导体制造提供高吞吐量、灵活性和精确度。其先进的设计、过程控制功能和可持续性功能使其成为生产性能和可靠性得到改进的下一代半导体器件的宝贵工具。
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