二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #117295 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 117295
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
ALD PVD chamber, 12"
Gen 1
TaN BFBE
Leybold turbo
2006 vintage
As-is, where-is.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是一种高性能的热化学气相沉积(CVD)反应器,能够产生高质量的厚膜,具有极好的稳定性。AKT Endura II用于沉积多种材料,包括电介质、导体、屏障层和有机化合物。AMAT Endura II具有卓越的均匀性、卓越的速率控制和卓越的晶圆可重复性。APPLICED MATERIALS Endura II用于生产具有出色工艺稳定性和均匀性的厚膜。最终产品为高度稳定、均匀且无缺陷的薄膜。Endura II是一个单区、水平的CVD反应堆,由一个热区(基板支架组件)和一个RF-等离子体发生器组成。热区由加热基板支架、样品级和变速电机组成。射频等离子体发生器为CVD过程提供辐射能量。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II允许精确控制沉积速率,高速度沉积的范围为5至250 nm/s,低速度沉积的范围为0.01至5 nm/s。AKT Endura II利用多频等离子体源提高了膜的均匀性和工艺稳定性。发电机的设计是为了优化等离子体的生成和减少过程的轮廓。这有助于确保沉积均匀性最大化,同时过程保持稳定和可重复。多频等离子体源也降低了过程的晶片对晶片的重复性。AMAT Endura II还融合了独特的多长淋浴头设计,可实现出色的沉积均匀性。喷头由一系列层组成,每一层都有不同的长度,以便沿着腔室的长度均匀沉积。此外,APPLIED MATERIALS Endura II能够使用范围广泛的温度来容纳不同的沉积配方。Endura II设计用于需要高质量CVD工艺的应用,如微电子、MEMS、光电器件制造等。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II能够沉积介电和有机材料以及屏障层。AKT Endura II独特的设计和先进的工艺能力使其成为需要高度均匀沉积、极好的重复性和工艺稳定性的应用的理想选择。
还没有评论