二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293593136 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293593136
晶圆大小: 12"
优质的: 2009
PVD System, 12"
Process: Copper
Factory interface
PRI AC Box
SEC AC Box
(3) RF Generator racks
DI Water cooler
(2) Cryo compressors
Process chamber (1 / 4): Encore II Tan
Process chamber (2 / 3): Encore II Cu
Process chamber (C / D): RPC
Process chamber (E / F): Degas
(2) Electric distribution boxes
N2 Gun
ALCATEL ADS1202H Loadlock pump
ALCATEL ADS1202H Xfer pump
ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber C)
ALCATEL ADS1202H Pump (Chamber D)
EDWARDS iH1000 Pump (Chamber E)
EDWARDS iH1000 Pump (Chamber F)
Missing parts:
Qty / Part number / Description
(2) / 0242-81627 / NSO Kits, XP Robots with enhanced high temp wrists and shipping case
(4) / 0010-29842 / Robot wrists CIP V2.3
(4) / 0200-06355 / Blades, ceramic open pocket conductive (ACB Blades)
(1) / 0190-25290 / LM Darp edge grip end effector KI (FI Robot blade)
(4) / 0190-41393 / NSK Drivers, 2-axis servo, 110 VAC F47
(1) / 0090-01629 / Assembly, transfer interlock with pos 5, 300mm
(1) / 0090-00353 / MF Buffer interlock PCB
(1) / 0190-24115 / PCB, CDN391R, D-I/O, 300 mm Endura
(2) / 0190-32372 / PCB, CDN396R, A-I/O, 300 mm Endura
(1) / 0190-05682 / PVD Dual chamber degas 208 V heater driver (Degas heat driver)
(1) / 0190-26701 / 0190-43081 / PVD 208 V Dual swill lamp degas driver (Degas lamp driver)
(1) / 0190-54040 / 0190-64793 / On-Board IS Controller (IS2000V Compatible) remote / Pump right mount (IS Controller)
(2) / 0190-54044 / 0190-64799 / Cryo compressors, 208 VAC Mit-ready 300 mm Endura II
(6) / - / Process chambers
(2) / - / RF Generator racks
(1) / - / Xfer Pump
(1) / - / Load lock pump
(4) / - / Chamber pumps (C,D,E,F)
(1) / - / DI Water cooler
(2) / - / Cryo compressors
(1) / - / FI Robot
(1) / - / FI Robot driver
(1) / - / XP Robot driver
(3) / 0190-41014 / LP PCBs
(2) / - / LP EV Modules
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是专门为各种先进材料的生长而设计的先进热CVD反应堆。该反应堆能够执行Epi、MOCVD、Metal Alloy CVD等过程。该反应堆采用自动质量流控制器和热处理模块等功能实现,能够对增长参数进行高级控制。这个强大的热CVD腔室由不锈钢和其他耐腐蚀材料制成，以增强耐用性和长期使用。反应堆装有直径25厘米的石英船，使用户能够最大限度地扩大生长面积。一个14英寸的腔室高度与一个8英寸的晶圆偏移相结合，使得该反应器成为先进沉积过程的最佳选择。AKT Endura II反应堆还包括全套自动化控制，包括PC控制的过程控制器、先进的2D/3D模式发生器和其他相关组件。此功能有助于确保对化学生长过程的准确控制。该腔室还包括一个内置真空鼓风机，其设计目的是增强工艺灵活性。AMAT Endura II反应堆使用闭环温度控制和压力控制等先进控制技术，负载速率高达10W/cm2。反应堆能够同时处理惰性和反应性气体。此外,Endura II还设计用于定制过滤系统,以帮助消除有害污染物和颗粒。这款先进的CVD工具还具有高气体通量、高均匀性和高吞吐量，让用户满足最苛刻的要求。APPLIED MATERIALS Endura II有一个封闭的设计,占地面积很小,使其能够轻松适应生产环境。总而言之，AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是一个先进的反应堆，具有先进的沉积工艺所必需的先进能力。
还没有评论