二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293616611 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II Reactor是一个先进的高性能制造平台，设计用于各种应用的光刻、蚀刻和沉积过程。它具有高质量的生产能力和自动化过程控制和现场监控等功能,专为多堆栈大批量生产而设计。AMAT Endura II在吞吐量、设备尺寸和光电性能方面都有显着进步。它配备了自动化控制模块，以确保对流程配方开发和可重复性的精确可靠的控制。Advanced Photoresist Processing （APR）模块允许进行10纳米以下的光刻,基板翘曲监视器（SWM）模块可确保大型晶片的精确温度和应变控制。此外，增强原位监测系统还提供先进的原位计量数据。APPLIED MATERIALS Endura II是围绕先进的真空集群工具体系结构构建的。这种配置由最多四个工艺模块组成，每个模块都配备了多个腔室，位于一个不需要额外橱柜空间的独立单元中。这样可以提高吞吐量并降低维护成本,同时仍能提供高质量的结果。系统的主腔室配备了多种等离子体源，包括射频（RF）源、电子回旋共振（ECR）和感应耦合等离子体（ICP）源，以及纳秒脉冲。等离子体源使涂层、蚀刻和清洁过程得以应用，从而能够创建复杂和先进的结构。Endura II还拥有先进的电源设计,它集成了电容滤波器和线性放大器,可提供高压和低波纹电源。这允许精确控制离子束能量和剂量速率，以改善不均匀性、重复性和产率。AMAT/APPLICED MATERIALS Endura II是为最大程度地方便用户而设计的,它具有灵活性套件,允许使用流程配方、基于复杂的流程前和流程后数据的配方,并能够对配方进行脱机运行的编程。流程数据分析工具集支持彻底的后处理分析,而硬件控制套件则允许特定的配方自定义和材料控制。该系统还具有一个内置配方数据库,用户可以在其中存储和召回配方,以确保不同流程的结果一致。总体而言，AMAT Endura II是一个功能强大且先进的制造平台，专为苛刻的蚀刻、光刻和沉积工艺而设计。凭借其先进的过程控制、原位监控功能和自动配方控制，它提供了高质量的结果以及改进的设备和模式尺寸。灵活性套件和硬件控制还使用户能够优化其流程以提高准确性和吞吐量。