二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293624638 待售
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已售出
ID: 293624638
晶圆大小: 12"
优质的: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system, 12"
(3) Load ports
BROOKS AUTOMATION GF-125C Controller
FES (CGA) Process unit
SINFONIA FOUP Opener
(2) Process chambers
Mass Flow Controller (MFC):
Ar / 150 SCCM
N2 / 200 SCCM
Ar / 20 SCCM
Unit position / Model / Chemical/Gases
1 and 3 / XLR-W / PAr and PN2
E and F / DMD / PAr
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Chamber-3 missing
Power supplies:
400 / 440 / 480 VAC, 3-Phase
200 / 208 VAC, 3-Phase
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II设备是一种化学气相沉积(CVD)反应器,用于半导体和介电膜制造行业,提供精确且可重复的工艺结果。AMAT Endura II是一种高性能的解决方桉,可靠、经济高效,可用于多种应用程序。它有几个特点,包括直观的触摸屏用户界面、用于精确温度控制的固体加热器、多种不同气体输入选项的已安装气体包,以及能够快速精确地调节温度、压力和气体流量。从气体供应中抽出的反应物气体流量由APPLIED MATERIALS Endura II的精确电子质量流量控制器(MFCs)控制。MFCs为整个反应物气体范围提供精确校准流量的精确控制,从而能够精确控制反应堆内部的压力、温度和气体浓度。反应物气体和废气通过一条共同的排气管线,用RotaFlow排气和节流阀(RFTV)控制排气。Endura II利用独特的热控系统,由三个隔热区组成,位于基板支架基板上。其中一个区域,即沉积区,用于处理高达800C的温度。另外两个区域用于预调整和冷却基板支架,然后在沉积过程后重新定位基板。AMAT/APPLICED MATERIALS Endura II单元的主室为高品位不锈钢,与外界环境完全隔离,免去了真空机在整个过程中保持高纯度的需要。为了提供精确的过程控制,AMAT Endura II使用高级控制器和反馈回路,提供对过程参数的实时监控。Endura工具上安装了多种传感器,并在整个沉积过程中采集样品,提供可用于调整工艺条件和保持对工艺严格控制的数据。APPLIED MATERIALS Endura II资产还配备了文丘里洗涤器和催化氧化剂,用于净化废气和消除废气前的工艺副产物。这样可以确保任何过程副产品或污染物都不会逃脱模型,并且过程环境保持纯净。总体而言,Endura II设备是一种可靠可靠的CVD沉积工具,可提供精确的工艺结果和最大程度的可重复性。它配备了有效的控制和监测系统,并提供了相当程度的灵活性和可调节性,以达到最佳沉积结果。
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