二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293685137 待售
网址复制成功！
单击可缩放
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，设计用于高通量和过程稳定性。该系统包括一个标准的PECVD反应堆和一个高密度的等离子体（HDP）PECVD反应堆。两座反应堆均具有900毫米（35.4英寸）宽，750毫米（29.5英寸）深的工艺模块，具有双区温度控制功能。此外，HDP反应器包括一个不锈钢波纹管室，旨在提高整个基板的均匀性。该腔室由316L不锈钢材料制成，提供卓越的真空密封，在加工过程中适用于多达75 SCCM的腔室气体流动。AKT Endura II专为低k介电膜、Silicon Carbon屏障膜、硬面膜和抗反射层设计，用于高级互连。它具有宽广的工作压力范围（1-1000 mTorr）和宽广的工艺窗口，用于处理均匀性、可控表面形态、均匀沉积速率以及与热生长氧化物（TGO）和低k前体兼容等关键膜特性。AMAT Endura II的HDP反应器设计用于精确控制底物温度、功率密度和产生高度均匀保形膜的气流。它还有一个改进的平行板侧面电子采样装置，可以对高功率和低功率侧壁进行独立控制和采样，从而提高基板中心内部和周围的均匀性。APPLIED MATERIALS Endura II使用单个射频发生器为常规和HDP PECVD工艺提供动力,从而在工艺变化方面实现最大灵活性。此外，PECVD反应堆还配备了用于快速脉冲的集成高速气箱和用于精确匹配先前基板沉积参数的单晶圆工艺控制。Endura II还包括对两个声光悬浮系统的可编程控制，这两个悬浮系统有助于制造基板提升和放置的均匀性和可重复性。这些系统将基板悬浮在腔室中，以防止加工过程中意外碰撞。总体而言，AMAT/APPLICED MATERIAL/AKT Endura II是一款先进的PECVD机器，设计用于高吞吐量和过程稳定性。它具有多种基板，可满足各种制造需求，如低k电介质、硅碳屏障、硬面膜和抗反射层。此外，集成射频发生器以及集成的高速气体箱和两个声光悬浮系统提供精确的控制和精确的晶片对晶片均匀性保证。
还没有评论