二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #293830799 待售
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ID: 293830799
优质的: 2015
Physical Vapor Deposition (PVD) system
(4) PVD Chambers
(2) Process chambers, 12", PN: 0060-03608, 0060-03609
Degas chamber
Pre clean chamber
Carrier, 12"
Wafer, 4" - 6"
Load port
Wafer carrier, 5 x 4" Wafer pocket, 4" Tray
(2) SiC Carrier (4", 6 hole) SiC Carriers
HON HAI PRECISION, Endura 2, 4" - 6P + 2" -1P SiC Tray
EDWARDS, IH600, Dry pump (IH600 MKS), Power supply: 200 - 208 V
EDWARDS, IH600 MK5, Pump, Power supply: 200 - 208 VG, 50/60 Hz
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II反应堆是一种高性能、经济高效的等离子体增强型化学气相沉积设备,设计用于沉积广泛的涂层材料。AKT Endura II反应器具有出色的均匀性、附着力和垂直性,是各种应用的理想选择,包括先进的基板、光电、MEMS、平板显示器和生物相容性涂层。系统设计的核心是AKT正在申请的智能视图等离子体室专利。这一特性可以方便地从等离子体室的后部监测沉积过程。在腔室窗口就位的情况下,研究人员可以实时监测整个腔室,从而提高沉积均匀性。Smart View功能还有助于研究人员了解工艺参数对具有挑战性的应用中的沉积速率的影响。AMAT Endura II反应器采用双区抗热加热装置,有助于确保均质样品或基板涂层。其两区温控机有助于确保整个工作区域的温度分布均匀,同时还提供快速、清洁的启动和冷却。反应堆装有反应性探测器,用于监测腔内气体分布,并提供详细的工艺信息。此外,利用可调节射频发生器(ARG)和线性扫描射频发生器(LSG)功能,APPLIED MATERIALS Endura II等离子体反应器为研究人员提供了比传统CVD系统更多的优势。除了其Smart View等离子体腔外,Endura II反应堆还设计了最大限度的等离子体控制。其固定频率和可调频率使研究人员有能力减少粒子耗竭,增加等离子体均匀性。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II还配备了高精度的自动气体关闭和气体控制工具,用于监控气体的溷合物,以确保最佳处理。安全方面,AKT Endura II反应堆配备真空互锁资产、耐腐蚀不锈钢腔室,设计排放水平低。它配备了先进的应急监测模式,以防止任何滥用,并提供一个安全和有保障的工作区。综上所述,AMAT Endura II是一种高性能、经济高效的等离子体增强型化学气相沉积设备,旨在沉积各种涂层材料。APPLIED MATERIALS Endura II反应器凭借其独特的Smart View等离子体室、两区温度控制系统、反应性探测器、可调线性扫描射频发生器、气体关闭和气体控制装置以及先进的应急监测机,为各种涂层应用提供了一个显着的解决方桉。
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