二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9161793 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II反应堆是为提供微电子生产无与伦比的性能而开发的全场离子植入装置。AKT Endura II反应器为应变层超晶格（SLS）器件和低压结场效应晶体管（LVJFET）器件提供卓越性能。该设备的设计目的是为氮和砷的沉积提供最高的离子能量和流体均匀性。AMAT Endura II反应堆的腔室由石墨型阴极和铝阳极系统组成。这种材料组合提高了热稳定性，提供了高电阻率，最大限度地减少了溅射。用于离子源的气体扩散装置旨在消除其他气体的污染，并提供一致、均匀的气源。此外，阴极加热机的设计是为了尽量减少温度波动，确保低能电子的存在，以改善离子的自由化。为了提高通量和延长目标寿命，APPLIED MATERIALS Endura II Reactor具有高温晶格光学元件，旨在减少电子和粒子成像失真，提高等离子体离子束轮廓的质量。它还有一个自动气体波动工具，带有对准颈部，以减少由于灯丝位置的变化而引起的离子束移动。这项资产的设计是为了在目标上保持均匀的光束分布，从而实现植入物面积覆盖的最佳均匀性。Endura II Reactor在模型中还具有高分辨率的反向散射测量技术，以精确计算剂量，降低装置故障的风险。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II反应堆还具有强大的设备控制和监控系统，使技术人员能够准确跟踪和控制植入参数。这包括一个用于严格控制气流的旁路系统，以及一个用于精确控制加速电压的集成高压控制模块，以及一个与内部系统协作以精确控制扫描速度和脉冲停止的集成扫描控制模块。AKT Endura II反应堆是为高性能微电子生产而设计的先进离子植入装置。该装置具有坚固的材料和全面的机器控制，以保证离子在目标上的均匀分布，以及用于一致离子束剖面的隔离气体扩散系统。这使得该工具能够为制造SLS和LVJFET设备提供卓越的性能。