二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9167151 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II促进等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。反应堆专门用于制造用于个人电子器件的半导体芯片，以及其他以能效为重点的薄膜技术。该装置具有双感应线圈和Hextron等离子体源，以确保高达5纳米/分钟的高沉积速率。其特点是具有高质量热壁的大腔室，为汽化反应物提供了最佳的温度环境。这两个工艺室提供低压、低温的CVD环境。AKT Endura II的特点是具有微波动力控制器的低维护反应堆和比其他型号更低的功耗。控制器监控并保持不同生产率的最佳性能条件。随着时间的推移，反应堆还提供了生产条件下的均匀性和可重复性。主动表面改性和等离子体色散设备确保均匀均匀的表面涂层，水平检测器确保在高反射性表面均匀覆盖。AMAT Endura II反应堆的设计考虑到安全考虑，并设有一个综合安全系统，限制腔内有毒气体的数量。此外，反应堆设有陶瓷密封真空室，带有防止反应性气体释放到环境中的电加压装置。此外，气体、真空、压力和水系统的网络允许在生产环境中增加安全性。Endura II旨在满足不同的应用需求,包括基于温度的优化和现场监控,以及增强对基板均匀性和一致性的控制。该设备安装和操作简单,非常适合各种技术,从专业化到更通用的生产过程。其先进的控制机器允许自动调整过程参数，减少了操作员干预可重复生产的需要。总体而言，APPLIED MATERIALS Endura II是一种高效、经济高效、可靠和安全的等离子体增强化学气相沉积反应器。它为利用各种薄膜技术制造小型器件提供了最佳环境，同时确保了高沉积速率和生产条件的均匀性。