二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9198255 待售
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ID: 9198255
优质的: 2009
PVD System
Process:
W(DC)
TiN(DC)
Si(RF)
Configuration:
Process tool:
FI
(3) Load ports
Endura main frame
Load lock A/B(LLA/LLB)
Degas chamber(CHE)
Versa Ti/TiN chamber (CH1)
Versa W/WN chamber (CH2)
RF PVD Si chamber (CH4)
Sub tools:
Primary AC box / Rack
Power rack:
Power supply
(3) Controllers
(2) Cryo compressors
Cooling chiller (Heat exchanger)
Dry pump (EBARA, 80WN x2, 20N x1)
Sub tools:
Qty / Make / Model / Part number / Description / CH
(6) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS 8F / / Cryopump / Buf/Tr/E/1/2/4
(2) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS-1000 / 0190-19395 / Cryocompressor / -
(2) / EBARA / ESR 80WN / / Drypump / System/LL
(1) / EBARA / ESR 20N / / Drypump / CHE
(1) / DAIKIN / - / 0190-25358 (Rev02) / Chiller / -
(1) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle / 0190-34646W / Power supply 20kW DC / CH1
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-26736101 / Power supply 10kW DC / CH2
(1) / ENI / GHW-12Z / 0190-25529W / Power supply / CH2
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-32405 / Power supply 5kW DC / CH4
(1) / COMDEL / CB3500 / 0190-38882 / Power supply 3500W RF / CH4
(1) / ASSEMBLY / HY-11 / 0010-25739 / Magnet 300MM DS-TTN / CH1
(1) / - / - / 0010-46871 / Magnet assy, 50M,LRW,300MM PVD / CH2
(1) / ASSEMBLY / Magnet / 0010-48649 / Magnet, 300MM, RF PVD / CH4
Parts list:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 3690-01847 / SCR CAP / Versa TTN
(1) / 0045-00250 / Matched pair / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-06870 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-53619 (Rev03) / Shield, 1-piece / RF Si
(1) / 0200-07582 (Rev05) / Ring, deposition / RF Si
(1) / 0021-54932 (Rev04) / Ring, cover / RF Si
(1) / 0021-26896 (Rev03) / Disk shutter / RF Si
(1) / 0020-07884 (Rev02) / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0041-25800 (Rev02) / Ring spacer / RF Si
Target:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / D0190-23987003 / END TI16.008-1T-0P / Versa TTN
(1) / NMJ-14040801-HL4 / END-W16411-0309T-DB / Versa WWN
(1) / D0190-3376702 / - / RF Si
Endura spare parts:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-05896 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-87836 (Rev2) / Straight shield extended 190mm spacing / RF Si
(1) / 0200-08030 / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0021-80310 / Cover ring / RF Si
(1) / 0200-12296 / Depo ring / RF Si
(2) / 0021-26896 / Shutter disk / RF Si
(1) / 0041-29007 / Spacer ring / RF Si
(6) / 3690-01929 / SCR CAP SKT HD / RF Si
(6) / 3690-02288 / SCR CAP SKT HD / RF Si
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II将把定制的复杂反应堆工程提升到一个全新的水平。这个功能广泛、功能强大的平台可以处理各种不同的流程,使我们的客户能够优化资源并最大限度地提高生产效率。AKT Endura II提供了一个非常适合当今工厂的制造系统,在过程复杂性、质量和安全性方面表现出色。AMAT Endura II拥有多项功能,使其在竞争中脱颖而出。它具有屏蔽室、真空源、真空泵、温度传感器、热电偶、工艺气线、气阀、控制器等标准部件。此外,此平台允许您自定义配置以满足任何高级流程的独特需求。再者，Endura II在清洁度、污染控制、传热等方面都符合高行业标准。这种先进的反应器非常适合在半导体、退火、回流和介电涂层过程中的许多应用。在半导体工艺方面，APPLIED MATERIALS Endura II在建立器件结构形成的基本条件方面表现出色。它还擅长设备优化和提高产量.此外,AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II具有广泛的可加工材料和选项,可帮助您优化基材的均匀性、电气特性和其他工艺要求。AKT Endura II也擅长退火工艺。它的设计采用了一种高效的方法来创建特殊的加热剖面,从而在整个机器中提供出色的均匀性。这有助于创建一致的电气特性和高产率。此外，AMAT Endura II有益于提高回流效果，为炉体提供可靠、平稳的加热。Endura II还提供卓越的介电涂层功能。它的设计具有高度的精确度和精确度，能够对基板表面进行精确和可重复的涂层。它还善于为表面扩散和利用创造最佳条件，同时避免过度的薄膜和颗粒污染。总而言之，APPLIED MATERIALS Endura II是一种特殊的反应堆解决方桉，可以处理各种各样的过程，并提供可靠和可重复的结果。它非常适合当今的先进工艺,能够提供业界领先的清洁、污染控制和传热。有了所有这些特性，很清楚为什么AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II是当今许多领先半导体制造商的首选反应堆。
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