二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9236847 待售

AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II是一种双室、高频感应耦合等离子体（ICP）反应器，设计用于半导体和光电器件制造材料的蚀刻和沉积。该反应堆由射频发生器、气流歧管设备、光学窗口和等离子体室组成。该反应堆被设计为与用于各种蚀刻和沉积过程的其他串联工艺工具相结合。射频发电机用于为等离子体供电，并提供高达2000瓦的最大输出。射频发生器包括一个高频感应耦合等离子体系统，设计用于在整个等离子体腔内均匀分配功率，用于蚀刻和沉积过程。发电机还包括一个自动频率控制单元，允许用户在连续或冲刺模式下设置射频发电机的频率。AKT Endura II包括一个由众多过程组成的气流歧管机，以提供广泛的过程参数。该工具包括质量流控制器、气体溷合歧管和用于样品处理的接地基板。它还包括等离子体室中高达100毫巴压力的高空能力。AMAT Endura II的光学窗设计用于提供石英级透射率,以最小程度地减少光引起的加热和基板污染。该窗口允许对蚀刻和沉积过程进行高分辨率成像，并涂覆以抵抗蚀刻和沉积过程中使用的侵蚀性化学物质的磨损或腐蚀。Endura II等离子体腔设计为用户提供广泛的工艺和温度范围。该腔室设计用于支持等离子体选择性蚀刻能力，包括离子束蚀刻、深反应性离子蚀刻和脉冲等离子体增强原子层沉积技术。它还允许产生氢气的高密度等离子体具有优越的蚀刻速率和低温低压范围的高通量运行。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II是一种精密、双室、高频ICP反应器，设计用于半导体和光电器件制造的广泛蚀刻和沉积工艺。射频发生器和气流歧管资产为处理各种工艺参数提供了条件。石英光学窗口允许对蚀刻沉积过程进行高分辨率成像，而等离子体腔允许在低温和压力水平下产生高密度等离子体和氢。AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II模型旨在提供高通量操作、优越的蚀刻速率以及提高工艺应用的产量。