二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9258545 待售

AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II是一种高通量PECVD（等离子体增强化学气相沉积）反应器，用于将薄膜沉积在多种材料上。该设备非常适合薄膜沉积工艺，如钝化、防反射涂层和薄电介质。它能够将高质量、均匀的物料层沉积到最苛刻的产品表面，具有较高的吞吐量和可重现的效果。AKT Endura II具有一个低压、高真空室，能够处理从一个晶圆尺寸到直径300 mm的材料。该室被划分成专用工艺组件的单独区域，并利用同轴淋浴头在反应堆内均匀分布等离子体和气体。它还包含了低温退火和蚀刻工艺步骤的离轴能力。AMAT Endura II使用高功率射频发生器在腔室中创建感应耦合等离子体（ICP）源。ICP源将反应物气体加热到几千摄氏度，这是产生所需沉积结果所必需的。等离子体的产生是由脉冲调制控制（PMC）系统控制的，该系统能够在整个基板上实现具有可靠均匀性的可重复沉积过程。该装置还可以选择原位聚焦离子束（FIB）进行过程监测，并能够为更多样化的沉积应用添加更多的源气体。Endura II还提供了多种过程控制功能，如反应性气体监测、气流控制、压力传感器和温度控制系统，以确保沉积过程一致并提高产量和可靠性。此外，该机采用自动晶片处理工具，易于装卸晶片，以确保材料的连续加工。综上所述，AMAT/APPLIED MATERIALS Endura II是一种高吞吐量的PECVD资产，能够生产高质量的材料层，具有可重复和可靠的一致性。该型号配备了多种不同的特性，如离轴能力、电感耦合等离子体源、脉冲调制控制设备、原位FIB、自动晶圆处理系统等。此单元是一个理想的解决方桉,适用于需要快速薄膜处理能力且精度和可靠性很高的研发和生产环境。