二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9293626 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是一种半导体蚀刻反应器，设计用于制造用于各种电子和光电器件的先进纳米级结构。该反应堆在高真空和低压（真空最高1×10−6 Torr）的条件下运行。它还具有集成的光阻蚀刻和多级沉积工艺，以及先进的控制、先进的安全系统和工艺监控能力。该系统采用三步工艺在晶片上形成纳米结构：蚀刻、沉积和后处理。蚀刻通常在等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统中进行，涉及应用反应物离子和自由基等离子体有选择地从晶片中去除材料。离子和自由基施加的压力和功率控制蚀刻的深度和产生的结构的大小和形状。该装置包括一个上下射频室，其中上部室专用于材料的沉积，并包含一个源室，用于将材料沉积到目标晶片上。下部射频室包含蚀刻室，这是进行蚀刻和清洁操作的地方。反应堆的转移机制使晶片能够在腔室之间快速准确地移动。该反应堆还配备了一个超纯气体供应储存区以及一个温度控制室，用于将材料分层成精确的层。该蚀刻反应器为用户提供了多种工艺参数，包括底物温度和射频功率。底物温度可以从室温到700 °C不等，而射频功率可以控制在50-600 W的范围内。总体而言，AKT Endura II是一种可靠且用途广泛的蚀刻反应堆，为用户提供了以前所未有的精度创造微观和纳米结构的能力。其内部安全系统，加上高度直观的操作，使其成为任何半导体制造环境的理想工具。