二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9298482 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II
ID: 9298482
优质的: 2012
System 2012 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II是一种先进的化学气相沉积(CVD)反应器,专门为最苛刻的微电子处理要求而设计。作为现有最先进的反应堆之一,AKT Endura II能够生产出温度、薄膜厚度和对大腔室尺寸的阶梯覆盖控制的高度均匀的薄膜。AMAT Endura II非常适合于Ti/TiN双层的薄膜沉积、氮化物基金属栅极膜以及用于先进CMOS和半导体应用的硫膜等高度复杂和精确的工艺。Endura II的关键特性包括多功能源插件,对气体和腔室温度的精确控制,以及先进的过程监测系统,以确保最大程度的过程均匀性和产量。APPLIED MATERIALS Endura II提供了无与伦比的工艺灵活性,使用户能够根据具体应用和基材的形状和尺寸修改工艺参数,如气体流量、基材温度和掩蔽点。这确保了在多种基材类型上的均匀膜沉积,包括铝(Al)、钨(W)或金(Au)。设备的最先进的机器人处理系统也使设备能够将精确数量的气体转移到加工室,并为延长生命周期准确地分配它们。由于其先进创新的设计,AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II提供了卓越的重复性、过程稳定性和粒子控制。机器的气体入口分散工具可确保气体以始终如一的高性能输送,以确保每次运行过程时基板都能看到完全相同的气体剖面。AKT Endura II还具有坚固的石英室设计和密封外壳,提供卓越的工艺重复性和出色的工艺控制。AMAT Endura II具有先进的热管理资产,能够对基板和晶片进行精确的温度控制。Endura II采用垂直级联加热模型,从上到下对腔室进行精确、均匀的回火。这样可以确保均匀的温度和均匀的沉积在基板上的每个位点上。此外,APPLIED MATERIALS Endura II的多区域AccuHeat设备可用于实现更精确的温度控制。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II结合了卓越的性能和先进的工艺控制,是当今半导体和MEMS行业要求最苛刻的精密CVD应用的理想选择。
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