二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9387985 待售
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AKT/AMAT/APPLICED MATERIALS/AKT Endura II反应堆是一种最先进的低压高真空(LVHV)CVD系统,设计用于半导体制造业的先进反应过程。它能够进行各种复杂的化学和物理过程,包括薄膜沉积、蚀刻、介电沉积、金属接触制造、金属/氧化物蚀刻选择性、晶圆清洁等等。AKT Endura II反应堆具有业界领先的高精度真空系统,能够达到2X10-7 Pa的基本压力。其强大的设计辅以先进的控制器和精密的传感器,确保对压力、温度、气流和其他变量的精确控制,以实现沉积过程的精确性能。AMAT Endura II反应堆使用大型石英室来容纳沉积过程。腔室密封可以在达到所需反应后有效地提取工艺气体。石英室壁内内置的加热元件,在沉积过程中均匀地向基板供热,以确保厚度均匀,附着力更好。石英室侧壁内置多个气体入口,方便沉积过程所需的不同材料前体。这种腔室设计也有助于实现均匀的膜沉积,即使沉积周期较长。APPLICED MATERIALS ENDURA II也有多种气动熄火系统,以突然的空气爆炸关闭反应堆,造成最终产品质量。此外,该反应堆包括用于控制和监测沉积过程及其变量的多区高精度自动化过程控制系统。最后,Endura II反应堆还具有提高装置产量和生产吞吐量的高工艺能力。AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II反应堆具有广泛的特点,使其成为半导体工业先进材料开发的理想工具。
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