二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura PVD #151575 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 151575
晶圆大小: 8"
HTHU chamber, 8" Helium leak test with RGA Tool Water Cool Standard Chamber Body 8" HTHU Heater 12.9" Source Assy AL Magnet (0010-20225) Cryo Elbow Kit Water Cooled Baffle Kit Basic Process Shield Installation Kit 3 Phase Low Vibration Fast Regen Cryo Pump HTHU Motorized Kit HTHU Wafer Lift Kit STD Body Chamber Harness Assy Chamber View Port (2.75") Water Cooled Baffle Plumbing Kit 12.9" Source Adapter Kit.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura PVD反应器是一种最先进的物理气相沉积(PVD)设备,旨在在各种沉积应用中提供高质量的结果。AMAT Endura PVD系统是一种单批工具,结合了一个腔室、射频源和坩埚,提供快速、可重复、热稳定的层层沉积。APPLICED MATERIALS Endura PVD单元为高性能层沉积提供了一套有利的功能,包括动态机器控制、等离子体功率调制、集成过程控制以及前、后过程选项。Endura PVD腔室是一种不锈钢结构,具有多件式闭合体积环境和集成的石墨敏感器板。射频源包括先进的宽带匹配网络、最先进的可调频电源和电感耦合电感,提供可靠、可重复、一致的功率传递。Cruceble设计用于均匀的热分布和高效的传热,即使在较高的温度下也能在过程中提供卓越的热稳定性。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura PVD工具具有完全用户可编程的数字控制器、完整的过程控制和内置温度传感器。该资产旨在精确设置工艺参数以达到目标沉积层,雾化器使气流雾化并输送具有高稠度的汽化反应物材料,安装热像仪以监测基板的加热和冷却。AMAT Endura PVD模型具有多种前体工艺,包括脱气、清洗、清洁和热身。此外,设备还采用冷却、停滞维护和焊剂冻结等工艺后选项。这些特性确保整个周期都能达到过程的临界温度参数。APPLICED MATERIALS ENDURA PVD系统的设计旨在准确、精确地提供所需的层沉积特性,以便在包括半导体、显示器和磁盘驱动器行业在内的各种应用专业领域中实现高性能的结果,用于先进晶圆和玻璃层。该设备配置性强,用户友好,是研究和制造应用程序的理想选择。
还没有评论