二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura SL #293722942 待售
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ID: 293722942
晶圆大小: 12"
优质的: 2001
W-CVD System, 12"
OHT WIP Delivery
(2) Load ports
Load port type: (25) Wafer FOUPs
Operator access switch
E84 Sensors and cables
KEYENCE with BCR
(4) Colours configurable light tower
(2) Heat Exchangers
NESLAB Chiller / Steelhead-1
UNISEM UN2002APG Gas scrubber
Chamber position 1, 4, C and D: Tungsten
Pumps:
IPUP Type: ALCATEL A100L
Position 1, 4, C, D: EBARA A150 Type
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL反应器是一种高性能、高质量的化学气相沉积（CVD）设备。该系统设计用于半导体器件制造行业领先的大气压力、单晶圆CVD工艺。AMAT Endura SL Reactor提供卓越的保形沉积，具有出色的薄膜均匀性，以实现最新的3D IC、LED和MEMS。APPLICED MATERIALS Endura SL反应堆的核心是其优越的气体控制。它采用创新设计,能耗更低,吞吐量更高,从而提高了生产效率和效率。Endura SL Reactor提供动态流量控制，具有极好的短期均匀性，使沉积一致的薄膜成为可能。其CVD腔室设计为多区可控，能够在一个腔室内优化多种工艺配方。它具有创新的负载锁定单元设计，允许精确的低负载晶片处理。AMAT/APPLIED MATERIALS Endura SL反应堆还提供从低温沉积到900 °C的全范围温度控制。这种温度灵活性允许广泛的CVD过程,包括PECVD、PEALD和ALD。反应堆还为快速检测和纠正过程控制问题提供了原地和异地诊断。它的软件套件提供了对整个CVD过程的自动控制,以实现更好的控制和可重复性。此外，AMAT Endura SL反应堆通过独特的、集成的闭环控制架构，拥有卓越的过程控制稳定性。它可以长期保持过程条件，如温度、湿度、流量和压力，而不会漂移。这样可以确保CVD过程始终处于精确控制之下。APPLICED MATERIALS Endura SL Reactor也提供了广泛的自动化安全特性。这些措施确保流程安全运行,对人员、设备和环境的风险最小。自动安全协议监视压力、流量、温度等参数,并且在超出预先设置的阈值时可以关闭流程。总体而言，Endura SL Reactor是一款高性能的CVD机器，旨在满足半导体器件制造最严格的要求。凭借其卓越的气体控制、全方位的温度控制和自动化的安全功能，该工具提供了市场上最高质量的沉积和工艺性能。它是为下一代微电子设备寻找可靠、可重复的CVD工艺的公司的理想选择。
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