二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura TxZ #9100111 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura TxZ是一种沉积反应器，旨在沉积厚度均匀的超光滑薄膜。该反应器利用两个不同涂层材料的磁控管阴极，一步一步地沉积薄膜。这使得薄膜沉积可以一次完成，而不是传统的单阴极技术所需的两次或更多次。AMAT Endura TxZ具有先进的多阴极系统，其工艺条件可以优化，以达到所需的薄膜性能。集成控制器可大大提高精度和可重复性。APPLICED MATERIALS Endura TxZ具有钟形腔室，具有多阴极磁控管溅射沉积源和对称配置的六磁控管源，能够实现高生产率。反应器的先进配置保证了薄膜沉积均匀，厚度均匀。Endura TxZ还采用了消弧技术,消除了加工弧并减少了它们对薄膜生长的干扰。多阴极系统也有利于具有挑战性的高长宽比结构的均匀涂层。AMAT/APPLICED MATERIALS Endura TxZ还具有活性气体等离子体预倾斜功能，可在沉积前对薄膜进行出色的清洁。预处理减少了室内的颗粒污染，使沉积膜更好地粘附在基板上。先进的等离子体控制系统保证了过程的稳定性、均匀的沉积速率和提高的吞吐量。AMAT Endura TxZ在10分钟的时间内对层厚度实现了0.5% ±的工艺稳定性。此外,APPLIED MATERIALS Endura TxZ还具有广泛的配方设置,允许用户从工艺到工艺优化薄膜属性。集成的集合点为用户提供了大量优化工艺参数的选项，以实现所需的薄膜性能。Endura TxZ也满足了大批量生产的要求，使其能够用于高通量应用。总体而言，AMAT/APPLICED MATERIALS Endura TxZ是一种沉积反应器，在10分钟的时间内提供出色的薄膜沉积、极佳厚度均匀性的超光滑薄膜、极佳的沉积前膜清洁以及较高的工艺稳定性。集成控制器提供了更高的准确性和可重复性，广泛的配方设置允许用户优化胶片性能。先进的等离子体控制系统保证了过程的稳定性、均匀的沉积速率和提高的吞吐量，使AMAT EnduraTxZ成为大批量生产的理想选择。