二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #117307 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor（又称AMAT ENDURA反应堆）是为半导体工业设计的大型工业工艺设备。该反应器用于化学气相沉积（CVD）工艺，通常用于在基板上沉积硅、金刚石状碳（DLC）和氮化物层的薄膜层。APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor是一种高温高压CVD反应器，能够监测和控制薄膜层一致可靠沉积所需的工艺参数。它装有一个加热室和一个加热敏感器，与各种气体和反应物材料兼容。反应堆还具有一系列先进的工艺控制，包括精确的沉积温度控制、压力感应和调节以及流量控制。ENDURA反应堆在半导体工业中被广泛用于制造电子电路、微结构、MEMS元件等应用。为快速高效地沉积层状材料而设计，具有极好的温度均匀性和可重复性，可实现高精度和可重复性沉积。AMAT/APPLICED MATERIALS ENDURA Reactor还设计用于减少工艺时间、最大限度地减少误差、最大限度地提高吞吐量。反应器由两个主要组件：工艺室和控制器.该工艺室由石英、铝或不锈钢制成，并装有加热元件、敏感器以及所有必要的传感器和阀门。也是沉积过程实际发生的区域。控制器是一个先进的计算机化系统，包括调节反应堆和优化过程参数所必需的软件和硬件。AMAT ENDURA Reactor为工艺工程师和操作员提供对整个沉积过程的完全控制。它可以与广泛的材料一起使用，包括二氧化硅、氮化物和类似金刚石的碳。反应堆还具有高度均匀的温度分布、精确的压力控制和极低的杂质水平。除了工艺控制能力外，APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor的设计还提供快速和一致的沉积速率。它还具有耐磨部件，并具有降低噪音和颗粒物水平的特点，以便更清洁的沉积环境。总体而言，ENDURA反应堆是为半导体工业设计的先进工业工艺设备。该反应器用于CVD工艺，可用于在基板上沉积硅、金刚石状碳和氮化物的薄膜层。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA为更清洁的沉积环境提供精确的过程控制和快速沉积速率以及低噪声和微粒水平。