二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #177672 待售

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ID: 177672
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
Sputtering system, 6" 1. ALCu(Clamp) 2. Wide-Ti(A101) 3. Wide-Ti(A101) 4. STD-AL-Si-Cu(Clamp) 5. - A. Pass B. Cool C. PC2 D. PC2 E. ORIENTER-DEGAS F. ORIENTER-DEGAS BUFFER: HP XFER: HP LL: NARROW MAGNET: DURA & G12 Pumps: EBARA AA40WN, AA40W, AA70W Missing: SBC FDD 24V Power supply Currently installed and shut down 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是为半导体工业中的材料沉积过程而设计的高品质化学气相沉积(CVD)设备。该反应堆提供卓越的性能和卓越的工程支持,在一个经济高效的包。AMAT ENDURA提供了真空处理环境的精确控制以及工艺、材料和沉积速率的最佳选择。APPLICED MATERIALS ENDURA利用多孔流出器的气体输送系统、精确的压力控制阀获得精确的压力调节,以及均匀的气体分配板获得均匀的气体分配。它还拥有一个多孔喷射器、导流板、阀门控制的热源,以及一个独特的三源分配装置,以获得均匀的沉积结果。ENDURA能够同时运行热和等离子体增强的CVD工艺,它能够容纳多种材料进行沉积,因此非常适合各种应用。每个工艺都可以进行定制,以优化沉积速率、均匀性和选择性。此外,较大的过程窗口和对过程参数的精确控制使用户能够准确地应用其特定的过程设计。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD反应堆在其115mm x 265mm的大底物容量上提供了卓越的热稳定性和热均匀性。它还采用先进的流量控制来实现最均匀的流量模式和均匀的沉积,以提高产量。机器的智能控制能力使用户能够准确快速地调节过程流体和温度,其自动化过程控制最大限度地减少了用户干预,节省了时间。AMAT ENDURA CVD反应堆的设计易于使用、安全可靠。它提供直观的10英寸触摸屏显示屏和高级图形用户界面(GUI),允许用户快速验证流程设置并根据需要快速调整参数。它还带有先进的安全功能,如发生错误时自动关闭,并且该工具配有内置警报指示器,在发生任何错误时提供清晰准确的反馈。总之,应用材料ENDURA CVD反应器是半导体工业中任何材料沉积过程任务的理想解决方桉。它提供卓越的性能、出色的工程支持和可靠的安全功能,经济实惠。ENDURA通过其对过程环境和自动化功能的精确控制,为用户提供了一种高效且经济高效的资产,以满足其所有沉积过程需求。
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